[发明专利]电解处理组件和使用其的表面处理装置

权利要求书

1.一种电解处理组件，其安装在对设定为阴极的工件的表面进行电解处理的表面处理槽中，其特征在于，

该电解处理组件具有喷嘴单元；以及

与所述喷嘴单元一体地连结的阳极单元，

所述喷嘴单元包含：

从垂直方向的不同位置分别喷出处理液的多个喷嘴管；

向所述多个喷嘴管供给所述处理液的共用配管；以及

将所述共用配管与设置于所述表面处理槽的外部配管连结的配管接头，

所述阳极单元具有：

至少一个不溶性阳极，其配置在与所述多个喷嘴管在水平方向分开的位置；

阳极箱，其包含与所述至少一个不溶性阳极在所述水平方向分开地配置的间隔壁，利用所述间隔壁包围所述至少一个不溶性阳极；以及

被供电部，其将所述至少一个不溶性阳极与设置于所述表面处理槽的外部供电部连接。

2.如权利要求1所述的电解处理组件，其特征在于，

所述被供电部包含与设置于所述表面处理槽的上方开口部的缘部的所述外部供电部电连接的连接端子部，

所述共用配管与所述多个喷嘴管的各上端部连通，在所述多个喷嘴管的上部水平延伸。

3.如权利要求2所述的电解处理组件，其特征在于，

所述共用配管被配置在比所述阳极单元的上端部更高的位置，

所述配管接头通过所述阳极单元的上方并与设置在所述表面处理槽的所述上方开口部的所述缘部的所述外部配管连接。

4.如权利要求1～3中任一项所述的电解处理组件，其特征在于，

所述多个喷嘴管的下端部被固定于所述阳极箱的下端部。

5.如权利要求1～4中任一项所述的电解处理组件，其特征在于，

所述间隔壁中的至少与所述多个喷嘴管相对的表面侧间隔壁由选择性地透过所述处理液中的金属离子的材料形成。

6.如权利要求5所述的电解处理组件，其特征在于，

所述间隔壁中的与所述表面侧间隔壁相对的背面侧间隔壁具有流通所述处理液的开口。

7.如权利要求6所述的电解处理组件，其特征在于，

所述至少一个不溶性阳极包含在所述水平方向上相邻的两个不溶性阳极之间具有空隙地配置的多个不溶性阳极，

所述背面侧间隔壁在与所述两个不溶性阳极之间的所述空隙相对的位置具有所述开口。

8.如权利要求1～7中任一项所述的电解处理组件，其特征在于，

所述阳极箱保持有遮蔽掩模，该遮蔽掩模遮蔽在所述至少一个不溶性阳极与所述工件之间形成的电场的一部分。

9.如权利要求8所述的电解处理组件，其特征在于，

所述遮蔽掩模包含遮蔽所述电解的下侧区域的第1遮蔽掩模、以及遮蔽所述电解的上侧区域的第2遮蔽掩模。

10.如权利要求9所述的电解处理组件，其特征在于，

所述阳极箱具有对所述第1遮蔽掩模和所述第2遮蔽掩模各自的垂直方向的安装位置进行调整的调整机构。

11.一种表面处理装置，其特征在于，其具有：

对工件的表面进行电解处理的表面处理槽；以及

配置在所述表面处理槽内的权利要求1～10中任一项所述的电解处理组件。