[发明专利]成型装置和光学头装置在审

专利信息
申请号: 201880039146.3 申请日: 2018-04-05
公开(公告)号: CN110809512A 公开(公告)日: 2020-02-18
发明(设计)人: 佐藤圭 申请(专利权)人: 索尼公司
主分类号: B29C64/20 分类号: B29C64/20;B29C64/135;B29C64/286;B33Y30/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 王玉双
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 成型 装置 光学
【权利要求书】:

1.一种成型装置,包括:

工作台,其具有台面;

调节主体,其具有表面和光催化剂层,所述表面包括面向所述台面的调节面,所述光催化剂层布置在所述调节面上,所述调节主体通过所述调节面调节待形成在所述台面上的成型物的材料在层叠方向上的位置;

光照射部,其经由所述调节主体的所述光催化剂层对所述材料照射光;和

移动机构,其相对地移动所述工作台和所述调节主体。

2.根据权利要求1所述的成型装置,其中

所述调节面为平面。

3.根据权利要求1所述的成型装置,其中

所述表面进一步包括除调节面之外的区域,

所述调节面经构造以使得所述调节面布置在相较于所述除调节面之外的区域更靠近所述工作台的位置;并且

所述光催化剂层至少布置在所述调节面上。

4.根据权利要求3所述的成型装置,其中

所述光照射部对在所述调节面与所述工作台之间的一维狭缝区域内的所述材料照射光。

5.根据权利要求1所述的成型装置,其中

所述光催化剂层包括由多种不同材料制成的多层结构。

6.根据权利要求1所述的成型装置,其中

所述光催化剂层包括氧化钛或氧化钽中的至少之一。

7.根据权利要求1所述的成型装置,其中

所述光照射部照射波长为450nm以下的光。

8.根据权利要求1所述的成型装置,其中

所述光催化剂层的表面粗糙度为100μm以下。

9.一种用于成型装置的光学头单元,所述成型装置包括具有台面的工作台,以及面向所述工作台布置的所述光学头单元,所述光学头装置包括:

调节主体,其具有表面和光催化剂层,所述表面包括面向所述台面的调节面,所述光催化剂层布置在所述调节面上,所述调节主体通过所述调节面调节待形成在所述台面的成型物的材料在层叠方向上的位置;和

光照射部,其经由所述调节主体的所述光催化剂层对所述材料照射光。

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