[发明专利]日光控制膜

权利要求书

1.一种复合膜，包括：

第一透明基板叠堆；

电介质层；以及

至少两个红外线反射叠堆，

其中所述电介质层设置在所述至少两个红外线反射叠堆之间；并且

其中每个红外线反射叠堆包括：

两个钛金属阻挡层；以及

功能层，所述功能层包含银，所述功能层在所述两个钛金属层之间。

2.一种复合膜，包括：

第一透明基板叠堆；

第一电介质层，所述第一电介质层邻近所述第一透明基板叠堆；

第一钛金属阻挡层，所述第一钛金属阻挡层邻近所述第一电介质层；

第一功能层，所述第一功能层包含银，所述第一功能层邻近所述第一钛阻挡层；

第二钛金属阻挡层，所述第二钛金属阻挡层邻近所述第一功能层；

第二电介质层，所述第二电介质层邻近所述第二钛阻挡层；

第三钛金属阻挡层，所述第三钛金属阻挡层邻近所述第二电介质层；

第二功能层，所述第二功能层包含银，所述第二功能层邻近所述第三钛阻挡层；

第四钛金属阻挡层，所述第四钛金属阻挡层邻近所述第二功能层；

第三电介质层，所述第三电介质层邻近所述第四钛阻挡层；以及

第二透明基板叠堆，所述第二透明基板叠堆覆盖所述第三电介质层。

3.一种形成复合膜的方法，其中所述方法包括：

提供第一透明基板叠堆；

形成邻近所述第一透明基板叠堆的第一电介质层；

形成邻近所述第一电介质层的第一钛金属阻挡层；

形成邻近所述第一钛阻挡层的第一功能层，所述第一功能层包含银；

形成邻近所述第一功能层的第二钛金属阻挡层；

形成邻近所述第二钛阻挡层的第二电介质层；

形成邻近所述第二电介质层的第三钛金属阻挡层；

形成邻近所述第三钛阻挡层的第二功能层，所述第二功能层包含银；

形成邻近所述第二功能层的第四钛金属阻挡层；

形成邻近所述第四钛阻挡层的第三电介质层；以及

提供覆盖所述第三电介质层的第二透明基板叠堆。

4.根据权利要求1、2和3中任一项所述的复合膜或方法，其中所述第一透明基板叠堆包括第一聚合物基板层。

5.根据权利要求4所述的复合膜或方法，其中所述第一聚合物基板层包含PET或PVB。

6.根据权利要求4所述的复合膜或方法，其中所述第一玻璃基板层包含深色玻璃，其中所述深色玻璃具有至少约10％的VLT。

7.根据权利要求1、2和3中任一项所述的复合膜或方法，其中所述复合膜包含不大于约95％的VLT。

8.根据权利要求1、2和3中任一项所述的复合膜或方法，其中所述复合膜包含至少约65％且不大于约95％的TSER。

9.根据权利要求1、2和3中任一项所述的复合膜或方法，其中所述功能层基本上由银组成。

10.根据权利要求1、2和3中任一项所述的复合膜或方法，其中所述阻挡层基本上由钛金属组成。

11.根据权利要求1、2和3中任一项所述的复合膜或方法，其中所述第一功能层具有至少约5纳米且不大于约25纳米的厚度。

12.根据权利要求1、2和3中任一项所述的复合膜或方法，其中所述第二功能层具有至少约5纳米且不大于约25纳米的厚度。

13.根据权利要求1、2和3中任一项所述的复合膜或方法，其中所述阻挡层中的每一个具有至少约0.1纳米且不大于约5纳米的厚度。