[发明专利]形成含铌膜的组合物和含铌膜的气相沉积有效
| 申请号： | 201880040099.4 | 申请日： | 2018-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN110785513B | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | 克莱蒙特·兰斯洛特-马特拉斯;李柱昊;卢沅泰 | 申请（专利权）人： | 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司 |
| 主分类号： | C07F9/00 | 分类号： | C07F9/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 徐国栋;林柏楠 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 形成 含铌膜 组合 沉积 | ||
【权利要求书】：
1.一种形成含铌膜的组合物，其包含具有下式的前体：
其中R＝tBu、R1＝iPr、R2＝H、和R3＝iPr。
2.一种用于形成含铌膜的原子层沉积方法，该方法包括在其中具有基板的反应器中引入如权利要求1所述的形成含铌膜的组合物的蒸气；并且
在该基板上沉积至少部分该前体。
3.如权利要求2所述的方法，该方法进一步包括将反应物引入到该反应器中。
4.如权利要求3所述的方法，其中，该反应物选自由以下各项组成的组：O2、O3、H2O、H2O2、NO、N2O、NO2、其氧自由基、以及其混合物。
5.如权利要求4所述的方法，其中，该形成含铌膜的前体是Nb(＝NtBu)(iPr,H,iPr-Pyr)3并且该反应物是O3。
6.如权利要求5所述的方法，其中，该基板是Ru层。
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