[发明专利]光学打印头、成像设备及光学打印头的制造方法有效
申请号: | 201880040124.9 | 申请日: | 2018-06-15 |
公开(公告)号: | CN110785287B | 公开(公告)日: | 2021-08-20 |
发明(设计)人: | 乙黑康明;冈田雄太;有贺泰祐;岩井齐;细井慎一郎;今井雄一郎;百家俊树;大坪庆贵;后久齐文;石馆毅洋 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | B41J2/447 | 分类号: | B41J2/447;B41J2/45;G03G15/04;G03G21/16;H04N1/036 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 姜雁琪 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 打印头 成像 设备 制造 方法 | ||
1.一种曝光感光构件的曝光头,所述曝光头包括:
基板,所述基板包括多个发光元件,所述多个发光元件用于发射使感光构件曝光于其的光;
细长的透镜阵列,所述透镜阵列设置有多个透镜,所述多个透镜用于将从所述多个发光元件发射的光会聚在所述感光构件上;
保持器,所述保持器用于保持所述基板和所述透镜阵列,所述透镜阵列与所述多个发光元件相对于所述透镜的光轴方向相对;
第一相对壁,所述第一相对壁通过朝向相对于所述透镜的所述光轴方向的光的出射方向从所述保持器突出而形成,并且与所述透镜阵列的在相对于与所述透镜阵列的纵向方向和所述光轴方向两者垂直的垂直方向的一侧上的一侧壁相对,其中,所述一侧壁粘合地固定到所述第一相对壁;以及
第二相对壁,所述第二相对壁通过从所述保持器朝向所述出射方向突出而形成,并且与所述透镜阵列的在相对于所述垂直方向的另一侧上的另一侧壁相对,其中,所述另一侧壁粘合地固定到所述第二相对壁,
其中,相对于垂直方向由保持机构保持以调节从所述发光元件到所述透镜阵列的距离的第一保持区域位于所述一侧壁和所述另一侧壁的相对于所述纵向方向的一个端部上,并且相对于垂直方向由所述保持机构保持以调节所述距离的第二保持区域位于所述一侧壁和所述另一侧壁的相对于所述纵向方向的另一端部上,
其中,所述第一保持区域从所述第一相对壁和所述第二相对壁的相对于纵向方向的一个端部暴露,并且所述第二保持区域从所述第一相对壁和所述第二相对壁的相对于所述纵向方向的另一端部暴露。
2.根据权利要求1所述的曝光头,其中,所述透镜阵列包括光的入射表面和出射表面,所述入射表面允许从所述多个发光元件发射的光入射,所述出射表面允许从所述入射表面入射的光发射;以及
所述出射表面相对于出射方向位于所述第一相对壁和所述第二相对壁的下游。
3.根据权利要求1所述的曝光头,其中,从所述透镜阵列的相对于纵向方向的一个端部到所述透镜阵列的相对于纵向方向的另一端部的长度比从所述第一相对壁的相对于纵向方向的一个端部到所述第一相对壁的相对于纵向方向的另一端部的长度和从所述第二相对壁的相对于纵向方向的一个端部到所述第二相对壁的相对于纵向方向的另一端部的长度两者都长。
4.根据权利要求2所述的曝光头,其中,所述保持器设置有细长开口,从所述发光元件行进到所述入射表面的光经过所述细长开口,以及
所述透镜阵列相对于所述纵向方向的两个端部均相对于所述纵向方向位于所述细长开口的外侧。
5.一种成像设备,所述成像设备包括:
感光构件;和
曝光头,所述曝光头用于曝光所述感光构件;其中,所述曝光头包括:
基板,所述基板包括多个发光元件,所述多个发光元件用于发射使所述感光构件曝光于其的光;
细长的透镜阵列,所述透镜阵列设置有多个透镜,所述多个透镜用于将从所述多个发光元件发射的光会聚在所述感光构件上;
保持器,所述保持器用于保持所述基板和所述透镜阵列,所述透镜阵列与所述多个发光元件相对于所述透镜的光轴方向相对;
第一相对壁,所述第一相对壁通过朝向相对于所述透镜的所述光轴方向的光的出射方向从所述保持器突出而形成,并且与所述透镜阵列的在相对于与所述透镜阵列的纵向方向和所述光轴方向两者垂直的垂直方向的一侧上的一侧壁相对,其中,所述一侧壁粘合地固定到所述第一相对壁;以及
第二相对壁,所述第二相对壁通过从所述保持器朝向所述出射方向突出而形成,并且与所述透镜阵列的在相对于所述垂直方向的另一侧上的另一侧壁相对,其中,所述另一侧壁粘合地固定到所述第二相对壁,
其中,相对于垂直方向由保持机构保持以调节从所述发光元件到所述透镜阵列的距离的第一保持区域位于所述一侧壁和所述另一侧壁的相对于所述纵向方向的一个端部上,并且相对于垂直方向由所述保持机构保持以调节所述距离的第二保持区域位于所述一侧壁和所述另一侧壁的相对于所述纵向方向的另一端部上,
其中,所述第一保持区域从所述第一相对壁和所述第二相对壁的相对于纵向方向的一个端部暴露,并且所述第二保持区域从所述第一相对壁和所述第二相对壁的相对于所述纵向方向的另一端部暴露。
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