[发明专利]电子照相设备用带电构件有效

专利信息
申请号: 201880040318.9 申请日: 2018-05-25
公开(公告)号: CN110753883B 公开(公告)日: 2022-02-22
发明(设计)人: 斋藤仁宏;堀内健;柏原伸吉 申请(专利权)人: 住友理工株式会社
主分类号: G03G15/02 分类号: G03G15/02;F16C13/00
代理公司: 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 代理人: 吴大建;霍玉娟
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电子 照相 备用 带电 构件
【说明书】:

本发明提供一种电子照相设备用带电构件,其在从低温低湿环境到高温高湿环境下长期具有恒定且优异的均匀带电性,且抑制了渗出的发生。电子照相设备用带电构件10具备弹性体层14和形成于弹性体层14的外周的表层16,弹性体层14包含下述(a)~(c)。(a)常温下为固体的离子导电剂,(b)常温下为液体的离子导电剂,(c)平均粒径为25~90nm、DBP吸收量为152ml/100g以下的电子导电剂。

技术领域

本发明涉及一种适用于采用电子照相方式的复印机、打印机、传真机等电子照相设备中的电子照相设备用带电构件。

背景技术

为了确保带电能力,以降低电阻值为目的而在电子照相设备的带电构件中使用离子导电剂、电子导电剂。带电构件分为使用了离子导电剂的离子型、使用了电子导电剂的电子型、和使用了这两者的混合型。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2012-8384号公报

发明内容

发明所要解决的问题

离子导电剂由于总的来说熔点较低或不存在熔点,因此在材料中的分散性非常高,适于带电构件的均匀带电性。但是,由于在使用时离子导电剂极化而逐渐被消耗,因此带电构件的电阻随时间的推移而上升,带电性恶化。因此,各制造商通过随时间推移增大施加偏压来保持带电性,防止画质恶化。另外,在低温低湿环境下,离子导电剂的离子运动变弱,电阻变高,因此带电性恶化。因此,各制造商通过使低温低湿环境下的施加偏压的设定比其他环境(例如高温高湿环境下)大来保持带电性,防止画质恶化。

与离子导电剂相比,电子导电剂的电阻不易受外部环境影响,因此不需要对每个环境设定施加偏压。但是,电子导电剂与离子导电剂相比粒径较大,而且分散性也较低,因此带电构件内、每个带电构件的带电性的偏差较大。对此,各制造商通过将施加偏压设定得较大以达到能够吸收带电性的偏差的程度,从而保持带电性,防止画质恶化。

但是,若增大施加偏压,则尽管保持了带电构件的带电性,但是因剩余的放电而促进感光体的消减,使寿命降低。另外,臭氧的产生量增加。另外,运行成本增大。因而,在带电构件中长期要求以下特性:即使不改变施加偏压也能够维持随时间推移的带电性;电阻不容易受外部环境影响(环境稳定性);以及带电构件内、每个带电构件的带电性的偏差小(均匀带电性)。

此外,在专利文献1中,记载了在带电构件中并用炭黑和离子导电剂。但是,若仅并用两者,则无法抑制因长期使用而使离子导电剂渗出的情况。

本发明要解决的问题在于,提供从低温低湿环境到高温高湿环境下长期具有恒定而优异的均匀带电性且能抑制渗出的发生的电子照相设备用带电构件。

用于解决问题的方法

为了解决上述问题,本发明所涉及的电子照相设备用带电构件的主旨在于,所述电子照相设备用带电构件具备弹性体层和形成于上述弹性体层的外周的表层,上述弹性体层包含下述(a)~(c):

(a)常温下为固体的离子导电剂;

(b)常温下为液体的离子导电剂;

(c)平均粒径为25nm~90nm、DBP吸收量为152ml/100g以下的电子导电剂。

上述DBP吸收量优选为70ml/100g~130ml/100g的范围内。上述(a)~(c)的质量含有比优选为(a)∶(b)∶(c)=0.4~3.0∶0.4~2.0∶10~40。以聚合物成分为100质量份计,上述(b)的含量优选为2.0质量份以下。以聚合物成分为100质量份计,上述(c)的含量优选为10质量份~40质量份的范围内。上述(a)以及上述(b)优选为选自季铵盐以及季鏻盐中的一种或两种以上。上述(a)以及上述(b)的阴离子优选为双(三氟甲磺酰基)酰亚胺离子或高氯酸根离子。上述表层的厚度优选为3.0μm~15μm的范围内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友理工株式会社,未经住友理工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880040318.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top