[发明专利]电解电容器及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201880040320.6 申请日: 2018-05-07
公开(公告)号: CN110753982A 公开(公告)日: 2020-02-04
发明(设计)人: 福井齐;小岛宽;牧野亚衣 申请(专利权)人: 松下知识产权经营株式会社
主分类号: H01G9/028 分类号: H01G9/028;H01G9/00
代理公司: 11021 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 蒋亭
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 固体电解质层 阳极体 导电性高分子 电解电容器 电介质层 衍生物层 有机碱 自掺杂
【说明书】:

电解电容器具备阳极体、在上述阳极体上形成的电介质层、以及在上述衍生物层上形成的固体电解质层。上述固体电解质层包含自掺杂型的导电性高分子和有机碱。

技术领域

作为体积小且容量大、等效串联电阻(ESR)小的电容器,具备阳极体、形成在阳极体上的电介质层、以及形成在衍生物层上且包含导电性高分子的固体电解质层的电解电容器备受期待。

专利文献1提出了一种固体电解电容器,其具备导电性高分子层,所述导电性高分子层包含具有异硫茚骨架的自掺杂型导电性高分子。专利文献2提出了一种固体电解电容器,其具备含胺类的层和包含聚苯胺磺酸、聚(异硫茚二基-磺酸盐)等自掺杂型导电性高分子的导电性高分子层。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2007-110074号公报

专利文献2:国际公开第2013/081099号单行本

发明内容

发明要解决的课题

在形成包含自掺杂型导电性高分子的固体电解质层的情况下,在高温环境下有时ESR增大或耐电压特性降低。

用于解决课题的手段

本发明的一个方案涉及一种电解电容器,其具备阳极体、在上述阳极体上形成的电介质层、以及在上述衍生物层上形成的固体电解质层,

上述固体电解质层包含自掺杂型的导电性高分子和有机碱。

此外,本发明的另一个方案涉及一种电解电容器的制造方法,其包括:

准备形成有电介质层的阳极体的工序;

准备包含自掺杂型的导电性高分子和有机碱的液状组合物的工序;以及

使上述液状组合物附着在上述电介质层上,形成包含上述自掺杂型的导电性高分子和上述有机碱的固体电解质层的工序。

发明效果

根据本发明,可提供即使在高温环境下也能够维持低ESR的电解电容器及其制造方法。

附图说明

图1为本发明的一个实施方式所述的电解电容器的截面示意图。

附图标记说明

1:电解电容器、2:电容器元件、3:树脂密封材料、4:阳极端子、4S:阳极端子的主面、5:阴极端子、5S:阴极端子的主面、6:阳极体、7:电介质层、8:阴极部、9:固体电解质层、10:阴极引出层、11:碳层、12:银糊剂层、13:分离层、14:粘接层

具体实施方式

[电解电容器]

本发明的实施方式所述的电解电容器具备阳极体、在阳极体上形成的电介质层、以及在衍生物层上形成的固体电解质层。

(固体电解质层)

本实施方式中,固体电解质层包含导电性高分子,导电性高分子包含自掺杂型的导电性高分子(第一导电性高分子)和有机碱。

自掺杂型的导电性高分子是指:具有通过共价键在导电性高分子的骨架上直接或间接键合的阴离子性基团的导电性高分子。该导电性高分子自身所具有的阴离子性基团作为导电性高分子的掺杂剂而发挥功能,因此被称为自掺杂型。阴离子性基团包括例如酸性基团(酸型)或其共轭阴离子基团(盐型)。因而,使用了自掺杂型导电性高分子的固体电解质层容易呈现酸性,电介质层容易腐蚀,有时耐电压特性降低或ESR上升。另一方面,在使固体电解质层中包含氨的情况下,能够在某种程度上抑制电介质层的腐蚀,但若长时间暴露在高温环境下,则固体电解质层的形态学发生变化,ESR容易上升。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下知识产权经营株式会社,未经松下知识产权经营株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880040320.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top