[发明专利]处理玻璃基材表面的方法在审

专利信息
申请号: 201880040340.3 申请日: 2018-06-15
公开(公告)号: CN110831754A 公开(公告)日: 2020-02-21
发明(设计)人: 小林秀树;水嶋康之;中西久典 申请(专利权)人: 康宁股份有限公司
主分类号: B32B3/02 分类号: B32B3/02;B32B3/10;C03C15/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 张璐;项丹
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 处理 玻璃 基材 表面 方法
【权利要求书】:

1.一种用于制造玻璃基材的方法,所述玻璃基材具有在其相对侧上的第一主表面和第二主表面,所述方法包括:

将玻璃基材放置在传送装置上并且使第一主表面面向上;以及

在传送玻璃基材的同时,

(i)使第二主表面与含氢氟酸(HF)气体的工艺气体接触,所述氢氟酸气体由常压等离子体产生,和

(ii)使第二主表面与含HF的水溶液接触,其中(i)和(ii)以非特定的顺序依次进行,并且得到表面粗糙度(Ra)不小于0.5nm且不超过1.5nm的第二主表面。

2.如权利要求1所述的方法,所述方法还包括:

用去离子水洗涤第二主表面,清洗第二主表面和干燥第二主表面。

3.如权利要求1或2所述的方法,其中,传送速度不小于5米/分钟且不超过20米/分钟。

4.如权利要求1至3中任一项所述的方法,其中,玻璃基材通过熔合拉制法产生。

5.如权利要求1至4中任一项所述的方法,其中,玻璃基材包含无碱金属玻璃。

6.如权利要求1至5中任一项所述的方法,其中,在第一步之前,先将玻璃基材加热到不低于25℃且不超过70℃的温度。

7.如权利要求1至6中任一项所述的方法,其中,含HF气体的工艺气体含有作为载气的氮气和氩气中的至少一种。

8.如权利要求1至7中任一项所述的方法,其中,用去离子水洗涤第二主表面包括:同时洗涤第一主表面,其中,实施第一步和第二步得到表面粗糙度不小于0.2nm且不超过0.3nm的第一主表面。

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