[发明专利]增材制造装置的功率辐射源的焦点校准

权利要求书

1.一种用于校准增材制造装置的功率辐射源的头部系统的方法，其中，为了确定要应用于所述系统的控制的校正，执行以下步骤：

在增材制造装置中布置包括多个参考标记的校准板，

控制所述源在校准板上标记至少一个由多个冲击点形成的校准图案，

获取所述校准图案和至少一个参考标记的至少一个图像，

根据如此获得的一个或更多个图像确定至少一个校正的控制，

其特征在于，确定校正的控制的步骤在获取的图像中确定出现在所述图像中的校准图案的冲击点的直径的分布，所述校正的控制取决于所述冲击点的直径的分布并成为焦点控制。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，在控制所述源的步骤中，利用不同的焦点控制来生成与不同的冲击点相对应的各种发射。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，在控制所述源的步骤中，利用焦点控制生成与不同的冲击点相对应的各种发射，所述焦点控制递增而使得直径围绕所述图案的中点呈高斯分布。

4.根据权利要求2和3中任一项所述的方法，其中，确定校正的焦点控制的步骤根据所述冲击点的直径的分布来确定最小直径的冲击点或推导的“腰点”。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，与标记的中点相关联的校正的控制是针对这样确定的所述冲击点的焦点控制，或者是与推导的所述“腰点”相对应的推导控制。

6.根据权利要求1和2中任一项所述的方法，其中，所述冲击点形成的校准图案是矩阵，并且所述焦点控制值逐列地、逐行地增加。

7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，利用头部系统控制所述源，以便在所述校准板上产生在理论上以预设理论目标点为中心的多个校准图案的标记。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，在所述获取步骤中，使光学测量装置在所述校准板上方移动，以便针对校准板的每个参考标记获取这样的区域的至少一个图像，一方面，在所述区域中存在所述参考标记，另一方面，在所述区域中存在紧邻的理论目标位置。

9.根据权利要求7或8所述的方法，其中，对于每个参考标记，处理一个或更多个所获取的图像，以便由此推导出所述参考标记的正交参照系中具有最小直径的冲击点或推导的“腰点”的位置，并确定所述点的位置与理论目标位置之间的偏移量，并且，根据该偏移量确定附加的校正。

10.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，为了确定校正，执行处置以从所述校准板的参照系转换到与所述头部相关的参照系。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，所述处理包括：识别与所述校准板上的两个给定参考标记相对应的图案，并且根据所述识别来确定校准板的参照系和与头部相关的参照系之间的平移方面和角旋转方面的偏移量。