[发明专利]包含易清洁涂层的涂覆制品

权利要求书

1.一种涂覆制品，其包括：

具有主表面的基材；

光学涂层，其布置在基材的主表面上并形成空气侧表面，所述光学涂层包括：

光学堆叠件；

布置在光学堆叠件上的粘附涂层，所述粘附涂层包括氧化铝层和氧化铝层上的氧化硅层；以及

易清洁涂层，其在粘附涂层的上方并且限定了光学涂层的空气侧表面。

2.如权利要求1所述的涂覆制品，其中，易清洁涂层包含一种或多种氟化化合物。

3.如权利要求1所述的涂覆制品，其中，易清洁涂层包含一种或多种氟化硅烷化合物。

4.如权利要求1-3中任一项所述的涂覆制品，其中，易清洁涂层与粘附涂层的氧化硅层直接接触。

5.如权利要求1-4中任一项所述的涂覆制品，其中，粘附涂层的氧化铝层与光学堆叠件直接接触。

6.如权利要求1-5中任一项所述的涂覆制品，其中：

粘附涂层的氧化硅层的厚度是2nm至50nm；以及

粘附涂层的氧化铝层的厚度是2nm至30nm。

7.如权利要求1-6中任一项所述的涂覆制品，其中，光学堆叠件包括高折射率材料与低折射率材料的交替层。

8.如权利要求1-7中任一项所述的涂覆制品，其中，光学堆叠件包括以下一种或多种：SiO₂、Al₂O₃、GeO₂、SiO、AlO_xN_y、AlN、SiN_x、SiO_xN_y、Si_uAl_vO_xN_y、Ta₂O₅、Nb₂O₅、TiO₂、ZrO₂、TiN、MgO、MgF₂、BaF₂、CaF₂、SnO₂、HfO₂、Y₂O₃、MoO₃、DyF₃、YbF₃、YF₃或CeF₃。

9.如权利要求1-7中任一项的涂覆制品，其中，光学堆叠件包括AlO_xN_y材料、Si_uAl_xO_yN_z材料，或者它们两者。

10.如权利要求1-9中任一项的涂覆制品，其中，光学堆叠件包括包含氧化硅的最顶层。

11.如权利要求1-10中任一项所述的涂覆制品，其中，光学涂层的最大硬度是10GPa或更大。

12.如权利要求1-11中任一项所述的涂覆制品，其中，对于450nm至800nm的所有波长，涂覆制品具有25％或更小的反光率。

13.如权利要求1-12中任一项所述的涂覆制品，其中，对于450nm至800nm的所有波长，涂覆制品具有75％或更大的透光率。

14.如权利要求1-13中任一项所述的涂覆制品，其中，根据钢丝绒测试，在以1kg的负荷经受3500次往复循环之后，空气侧表面上的易清洁涂层包括98度或更大的平均水接触角。