[发明专利]聚酰胺-酰亚胺树脂膜

说明书

本发明涉及具有低双折射率的聚酰胺‑酰亚胺树脂膜，其包含聚酰胺‑酰亚胺嵌段共聚物，所述聚酰胺‑酰亚胺嵌段共聚物包含键合有间苯二甲酰基和芳族二胺残基的酰胺重复单元；酰亚胺重复单元；和含有芳族三羰基的三价官能团。

技术领域

相关申请的交叉引用

本申请要求于2018年1月9日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2018-0002877号的申请日的权益，其全部内容通过引用并入本文。

本发明涉及聚酰胺-酰亚胺树脂膜。

背景技术

芳族聚酰亚胺树脂是大部分具有无定形结构的聚合物，并且由于其刚性链结构而表现出优异的耐热性、耐化学性、电特性和尺寸稳定性。这样的聚酰亚胺树脂广泛用于电/电子材料。

然而，聚酰亚胺树脂在使用上具有许多限制，因为其由于存在于酰亚胺链中的π电子的CTC(charge transfer complex，电荷转移络合物)的形成而呈深褐色。

为了解决所述限制并获得无色透明的聚酰亚胺树脂，已提出以下方法：通过引入强吸电子基团例如三氟甲基(-CF₃)来限制π电子的移动的方法；通过将砜基(-SO₂-)、醚基(-O-)等引入主链中以形成弯曲结构来减少CTC形成的方法；以及通过引入脂族环状化合物来抑制形成π电子的共振结构的方法。

然而，由于弯曲结构或脂族环状化合物，根据前述方案的聚酰亚胺树脂难以表现出足够的耐热性，并且使用其生产的膜具有表现出差的机械特性的限制。

发明内容

技术问题

本发明的目的旨在提供在呈无色且透明的同时表现出优异的机械特性的芳族聚酰胺-酰亚胺共聚物膜。

技术方案

提供了聚酰胺-酰亚胺树脂膜，所述聚酰胺-酰亚胺树脂膜包含聚酰胺-酰亚胺嵌段共聚物，所述聚酰胺-酰亚胺嵌段共聚物包含：键合有间苯二甲酰基和芳族二胺残基的酰胺重复单元；酰亚胺重复单元；和含有芳族三羰基的三价官能团，其中在590nm的波长下测量的厚度方向上的延迟(Rth)为2000nm或更小。

在下文中，将更详细地描述根据本发明的一个实施方案的聚酰胺-酰亚胺树脂膜。

此外，根据本公开内容，提供了包含上述聚酰胺-酰亚胺嵌段共聚物的基于聚酰亚胺的膜。

除非在整个本说明书中另外说明，否则本文中使用的技术术语仅用于描述特定实施方案，并不旨在限制本发明。

除非上下文另外明确指出，否则单数形式也旨在包括复数形式。

本文中使用的术语“包括”或“包含”指定特定的特征、区域、整数、步骤、动作、要素和/或组分，但是不排除添加不同的特定特征、区域、整数、步骤、动作、要素、组分和/或基团。

包括序数例如“第一”、“第二”等的术语仅用于将一组分与另一组分区分开的目的，而不受序数限制。例如，在不脱离本发明的范围的情况下，第一组分可以被称作第二组分，或者类似地，第二组分可以被称作第一组分。

根据本公开内容的一个实施方案，可以提供聚酰胺-酰亚胺树脂膜，所述聚酰胺-酰亚胺树脂膜包含聚酰胺-酰亚胺嵌段共聚物，所述聚酰胺-酰亚胺嵌段共聚物包含：键合有间苯二甲酰基和芳族二胺残基的酰胺重复单元；酰亚胺重复单元；和含有芳族三羰基的三价官能团，其中在590nm的波长下测量的厚度方向上的延迟(Rth)为2000nm或更小。