[发明专利]用于制备被取代的含氮杂环化合物的方法在审
申请号: | 201880042684.8 | 申请日: | 2018-06-25 |
公开(公告)号: | CN110799506A | 公开(公告)日: | 2020-02-14 |
发明(设计)人: | 奥利弗·考夫霍尔德;克里斯蒂安·雅斯帕;赫尔穆特·哈恩 | 申请(专利权)人: | 默克专利有限公司 |
主分类号: | C07D403/04 | 分类号: | C07D403/04;C07D407/04;C07D251/24 |
代理公司: | 11219 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 王潜;郭国清 |
地址: | 德国达*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 含氮杂环化合物 电子器件 可用 制备 | ||
1.一种用于制备不对称取代的含氮杂环化合物的方法,所述方法包括以下步骤:
A)使下式(I)、(II)或(III)的反应物与第一反应性芳族或杂芳族化合物(A)反应以获得中间体(ZA):
其中所用的符号和标记如下:
Za、Zb、Zc是卤素或OR;
X在每种情况下相同或不同并且是CR1或N,优选是N,其条件是符号X中的至少两个是N,并且特别优选地,所有X都是N;
R、R1在每种情况下相同或不同并且是H,D,N(R2)2,CN,NO2,OH,COOH,COOR2,C(=O)N(R2)2,Si(R2)3,B(OR2)2,C(=O)R2,P(=O)(R2)2,S(=O)R2,S(=O)2R2,OSO2R2,具有1至20个碳原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团,或具有2至20个碳原子的烯基或炔基基团,或具有3至20个碳原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团,其中所述烷基、烷氧基、硫代烷氧基、烯基或炔基基团可各自被一个或多个R2基团取代,其中一个或多个非相邻的CH2基团可被R2C=CR2、C≡C、Si(R2)2、C=O、NR2、O、S或CONR2代替,或具有5至40个芳族环原子并且在每种情况下可被一个或多个R2基团取代的芳族或杂芳族环系,或具有5至40个芳族环原子并且可被一个或多个R2基团取代的芳氧基或杂芳氧基基团;同时,两个或更多个R1基团一起可形成环系;
R2在每种情况下相同或不同并且是H,D,F,Cl,Br,I,N(R3)2,CN,NO2,Si(R3)3,B(OR3)2,C(=O)R3,P(=O)(R3)2,S(=O)R3,S(=O)2R3,OSO2R3,具有1至20个碳原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团,或具有2至20个碳原子的烯基或炔基基团,或具有3至20个碳原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团,其中每个烷基、烷氧基、硫代烷氧基、烯基或炔基基团可被一个或多个R3基团取代,其中一个或多个非相邻的CH2基团可被R3C=CR3、C≡C、Si(R3)2、C=O、NR3、O、S或CONR3代替,或具有5至40个芳族环原子并且在每种情况下可被一个或多个R3基团取代的芳族或杂芳族环系,或具有5至40个芳族环原子并且可被一个或多个R3基团取代的芳氧基或杂芳氧基基团,或具有5至40个芳族环原子并且可被一个或多个R3基团取代的芳烷基或杂芳烷基基团,或具有10至40个芳族环原子并且可被一个或多个R3基团取代的二芳基氨基基团、二杂芳基氨基基团或芳基杂芳基氨基基团;同时,两个或更多个R2基团一起可形成环系;
R3在每种情况下相同或不同并且是H,D,F或具有1至20个碳原子的脂族、芳族和/或杂芳族的有机基团,特别是烃基基团,其中一个或多个氢原子还可被F代替,同时,两个或更多个取代基R3一起也可形成单环或多环的环系;
其条件是Za基团不同于Zb或Zc基团,并且Za、Zb、Zc基团中的至少一个是卤素;
B)使所述中间体(ZA)与不同于所述第一反应性芳族或杂芳族化合物(A)的第二反应性芳族或杂芳族化合物(B)反应,以获得不对称取代的含氮杂环化合物。
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