[发明专利]薄膜形成用原料、薄膜的制造方法以及新型化合物

权利要求书

1.一种薄膜形成用原料，其含有通式(1)所示的化合物，

式中，X表示卤素原子，R表示碳原子数1～5的伯烷基或仲丁基。

2.根据权利要求1所述的薄膜形成用原料，其中，

X为氯原子或溴原子。

3.根据权利要求1或2所述的薄膜形成用原料，其中，

X为氯原子，R为碳原子数3～5的伯烷基或仲丁基。

4.根据权利要求1或2所述的薄膜形成用原料，其中，

X为溴原子，R为碳原子数2～4的伯烷基或仲丁基。

5.一种含有钛原子的薄膜的制造方法，其包括：

使权利要求1～4中任一项所述的薄膜形成用原料气化的工序；

将所得到的含有所述通式(1)所示的化合物的蒸气导入至处理气氛的工序；以及

使该化合物进行分解和/或化学反应而沉积于基体的表面的工序。

6.一种化合物，其由下述通式(2)表示，

式中，L表示碳原子数2～5的伯烷基或仲丁基。

7.根据权利要求6所述的化合物，其中，

L为乙基。