[发明专利]实时X射线剂量计

权利要求书

1.一种具有光束源的辐射曝光系统，所述系统进一步包括：

可变厚度降级器，该可变厚度降级器定位在该光束源与待曝光的物体之间，用于向从该光束源发射到该物体上的辐射光束提供变化的降解度；以及

至少一个检测器，定位于所述可变厚度降级器与所述物体之间，用于接收并测量所述辐射光束的在通过所述可变厚度降级器降解所述辐射光束之后仅剩余的一部分，

其中，该可变厚度降级器形成为包括多个区段，该多个区段中的每个区段包括用于使该辐射光束的未降解部分能够穿过其的相应孔。

2.根据权利要求1所述的辐射曝光系统，其中，该多个区段由相同材料形成，该多个区段中的每个区段具有多个不同厚度中的一个相应厚度以提供变化的降解度中的相应一个。

3.根据权利要求1所述的辐射曝光系统，其中，该多个区段中的每个区段由多种不同材料中的相应一种形成，以提供该变化的降解度中的相应一种。

4.根据以上任一项权利要求所述的辐射曝光系统，其中，该可变厚度降级器是由一种或多种金属形成的。

5.根据权利要求1所述的辐射曝光系统，其中，该可变厚度降级器被布置为将施加到该至少一个检测器的辐射曝光量减少到低于阈值量。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的辐射曝光系统，其中该至少一个检测器包括至少一个二极管的组。

7.根据权利要求6所述的辐射曝光系统，进一步包括用于基于该至少一个二极管的组中的电流量来计算由该辐射光束发射的辐射曝光量的处理器。

8.根据权利要求1至3中任一项所述的辐射曝光系统，其中该至少一个检测器包括一组光电倍增管。

9.根据权利要求1至3中任一项所述的辐射曝光系统，其中该可变厚度降级器被形成为至少具有半圆形形状。

10.根据权利要求1至3中任一项所述的辐射曝光系统，进一步包括电机，该电机用于从对应于该变化的降解度的一组预定位置改变曝光于该辐射光束的该可变厚度降级器的一部分的位置。

11.根据权利要求1至3中任一项所述的辐射曝光系统，其中，该至少一个检测器连接到印刷电路板并围绕该印刷电路板的孔对称地布置。

12.根据权利要求1至3中任一项所述的辐射曝光系统，其中该至少一个检测器包括四个间隔设置的检测器。

13.根据权利要求1至3中任一项所述的辐射曝光系统，进一步包括包含该至少一个检测器的检测电路，该检测电路被配置为检测和记录该辐射光束随时间的通量。

14.根据权利要求1至3中任一项所述的辐射曝光系统，其中，该可变厚度降级器具有阶梯状水平以用于以预定量调制该辐射光束的降解。

15.根据权利要求1至3中任一项所述的辐射曝光系统，其中，该可变厚度降级器由各种能够堆叠金属的板形成，使得由各种板形成的不同板组合向该辐射光束提供不同水平的降解。

16.根据权利要求1至3中任一项所述的辐射曝光系统，进一步包括用于控制该可变厚度降级器的位置以获得不同降解水平中的相应降解水平的电机。