[发明专利]用于整修复制工具的方法和用于制造大量装置的相关方法有效

专利信息
申请号: 201880045519.8 申请日: 2018-05-02
公开(公告)号: CN111279261B 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 余启川;伍寒妮;托比亚斯·桑;约翰·A·维达隆;拉蒙·奥珀达;阿蒂利奥·费拉里;哈特姆特·鲁德曼;马丁·舒伯特 申请(专利权)人: 赫普塔冈微光有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;B29C59/00;B29D11/00
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 王东贤;王珍仙
地址: 新加坡新加*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 整修 复制 工具 方法 制造 大量 装置 相关
【说明书】:

用于制造大量装置的方法包括:—提供包括工具材料的复制工具;—整修复制工具,其中整修包括向工具材料施加处理,其中处理包括将工具材料暴露于整修材料。并且其进一步包括,在整修后:—进行一个或多个复制过程,其中在一个或多个复制过程中的每一个中,使用复制工具,通过复制由复制材料生产一个或多个装置。处理可包括通过使工具材料暴露于整修材料而在尺寸上改变工具材料。在进行复制过程之前,整修材料可被硬化并且去除。

技术领域

本发明涉及通过复制来制造装置,例如,光学装置。更具体地,本发明涉及复制工具的整修。其涉及根据权利要求的开放条款的方法。例如,这种方法用于微型光学装置的大量生产。

术语的定义

“无源光学组件”:通过折射和/或衍射和/或(内部和/或外部)反射而使光改变方向的光学组件,比如透镜、棱镜、镜子(平面镜或曲面镜)、滤光器或光学系统,其中光学系统为这些光学组件的统称,也可包括机械元件,比如孔径光阑、图像屏幕、支架。

“复制”:通过其使给定的结构或其底片再生的技术,例如,蚀刻、轧花(压印)、铸造、模制。

“晶片”:大体上盘状或板状形状的物品,其在一个方向(z-方向或竖直方向或堆叠方向)上的延伸小于其在另外两个方向(x-方向和y-方向或横向方向)上的延伸。通常,在(非空白)晶片上,多个相同的结构或物品通常以矩形栅格布置在其中或提供在其中。晶片可具有开孔或孔洞,并且晶片可甚至在其横向区的主要部分中没有材料。晶片可具有任何横向形状,其中圆形形状和矩形形状非常常见。尽管在许多情境中,晶片被理解为普遍由半导体材料制造,但是在本专利申请中,这明确不是一种限制。因此,晶片可普遍由,例如,半导体材料、聚合物材料、包括金属和聚合物或聚合物和玻璃材料的复合材料制造。尤其,结合本发明,可硬化的材料比如热或UV可固化的聚合物是感兴趣的晶片材料。

“光”:最一般的电磁辐射;更具体为电磁光谱的红外部分、可见部分或紫外部分的电磁辐射。

背景技术

在晶片水平上制造光学装置的方式是本领域已知的。例如,在单个晶片水平复制过程中生产几十或几百个透镜。相应的晶片水平复制工具可用于许多连续的复制过程,以便使用一个并且相同的复制工具生产许多次所述几十或几百个透镜。

在大量生产中,一般而言,并且特别在光学装置的大量生产中,再现性是非常重要的,因为如此生产的同类装置的特性的偏离应尽可能的少。实现高再现性可产生高的成品率,并且通过减少用于返工制造的装置或挑选出具有偏离设定值太多的特性的装置的工作而可简化总体制造过程。

因此,在复制尤其是大量生产中,非常期望实现高度的过程稳定性。

发明内容

本发明的形式的优势的实例是在复制的装置比如在复制的光学装置的大量生产中实现高的过程稳定性。

本发明的形式的优势的另一实例是通过产生特别高产率的复制提供用于制造装置的方法。

本发明的形式的优势的另一实例是提供供应复制工具的方式,通过所述复制工具可生产具有彼此显示仅仅非常小的偏差的尺寸的装置。

进一步的目标和各种优势表现在下面的描述和实施方式中。

这些目标中的至少一种可在本公开中描述的方法的一些实施方案中实现。

发明人的研究的确发现,复制的装置的尺寸改变好像存在,其显示一些对进行复制过程的时间的依赖性。并且发明人确定这种尺寸改变明显可取决于在复制过程中使用的复制工具的历史。

根据发明人,当在使用之前整修复制工具时,可实现复制过程的显著改善。他们确定当使复制工具在复制过程之前进行处理时,可实现复制的装置之间显著减少的尺寸偏差。

发明人发明了用于制造大量装置的新的方法和用于整修复制工具的相关方法。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于赫普塔冈微光有限公司,未经赫普塔冈微光有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880045519.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top