[发明专利]量测设备和衬底平台输送装置系统

说明书

为了改善测量设备的生产率性能和/或经济性，本发明提供一种量测设备，包括：第一测量设备；第二测量设备；第一衬底平台，所述第一衬底平台被配置为保持第一衬底和/或第二衬底；第二衬底平台，所述第二衬底平台被配置为保持所述第一衬底和/或所述第二衬底；第一衬底输送装置，所述第一衬底输送装置被配置为输送所述第一衬底和/或所述第二衬底；和第二衬底输送装置，所述第二衬底输送装置被配置为输送所述第一衬底和/或所述第二衬底，其中，从第一FOUP、第二FOUP或第三FOUP装载所述第一衬底，其中，从所述第一FOUP、所述第二FOUP或所述第三FOUP装载所述第二衬底，其中所述第一测量设备是对准测量设备，以及其中所述第二测量设备是水平传感器、膜厚度测量设备或光谱反射率测量设备。

技术领域

发明的第一方面涉及一种对准测量设备以及一种用于测量衬底上的对准标记的位置的方法。

本发明的第二方面涉及一种光刻设备和衬底平台输送装置系统。

本发明的第三方面涉及一种量测设备。

背景技术

光刻设备是一种将所期望的-图案施加到衬底上(通常在衬底的目标部分上)的机器。光刻设备可例如用于制造集成电路(IC)。在这种情况下，可以将可替代地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成于集成电路的单层上的电路图案。可以将该图案转印到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括管芯的一部分、一个或更多个管芯)上。典型地，通过将图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行图案的转印。通常，单个衬底将包含被连续地形成图案的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进器和所谓的扫描器，在步进器中，通过将整个图案一次性地曝光到所述目标部分上来照射每个目标部分；在扫描器中，通过利用辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案，同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步地扫描衬底，来照射每个目标部分。也有可能通过将图案压印到衬底上而将图案从所述图案形成装置转印到所述衬底。

在光刻设备的已知实施例中，所述光刻设备包括对准测量系统，以测量设置在所述衬底上的对准标记的位置。通过测量这些对准标记的位置，可以确定所述衬底相对于保持所述衬底的衬底台的位置和/或变形。所述衬底的这种测量到的位置和/或变形使得所述光刻设备能够在将已形成图案的辐射束实际投影到所述衬底的目标部分上期间将所述衬底相对于所述投影系统和/或所述图案形成装置定位在期望的位置。

以这种方式，已形成图案的辐射束在所述衬底的目标部分上的连续投影可以相对于彼此对准。重叠性能，即，已形成图案的辐射束在所述衬底的目标部分上的连续投影的对准，是使用所述光刻设备制造的器件的产品品质中的重要因素。

通常需要改善光刻设备的重叠性能以改善产品品质。可以例如通过测量所述衬底上的实质上更多的对准标记来改善所述重叠性能。特别地，衬底对准栅格可以包含形变的高频分量，该高频分量可以通过测量大量对准标记而被更好地校正。然而，大量对准标记的测量将导致对准测量时间的增加，因此将对所述光刻设备的生产性能产生限制作用。

此外，在器件的制造过程期间，所述衬底经受多个处理步骤，例如层沉积、蚀刻和退火。这些处理步骤(其通常导致衬底之间和/或衬底的堆叠之间和/或衬底的层之间的变化)对光刻过程的重叠性能的影响也具有重要意义。

常规地，已经提出了一种设备，该设备包括单个衬底平台，以测量(或检查)衬底的一种类型的特性(例如，参见专利文献1至4)。然而，当采用这种常规技术时，为了测量(和/或检查)同一衬底的多个特性，需要分别测量(和/或检查)不同类型的特性的多个设备。

引用文件列表

专利文件

专利文件1：日本专利申请公开第2007-250578号

专利文件2：日本专利申请公开第2012-202980号

专利文件3：日本专利申请公开第2006-135211号