[发明专利]基板的研磨方法及研磨用组合物套组

权利要求书

1.一种研磨方法，其为研磨基板的方法，

其包含预研磨所述基板的预研磨工序，

所述预研磨工序包含在同一平板上进行的多个预研磨阶段，

所述多个预研磨阶段依照顺序包含：第1预研磨阶段，其对所述基板供给第1研磨液来进行；第2预研磨阶段，其供给第2研磨液来进行；及第3预研磨阶段，其供给第3研磨液来进行；

所述第2研磨液由所述第1研磨液与所述第3研磨液的混合物所构成，

所述第2预研磨阶段通过对所述基板同时供给所述第1研磨液与所述第3研磨液来进行，

所述第1研磨液所含的水溶性高分子P₁的含量COM_P1、所述第2研磨液所含的水溶性高分子P₂的含量COM_P2、与所述第3研磨液所含的水溶性高分子P₃的含量COM_P3的关系满足COM_P1COM_P2COM_P3，且满足以下条件中任一项：

(1)所述第3研磨液所含的磨粒A₃的平均一次粒径D_A3小于所述第1研磨液所含的磨粒A₁的平均一次粒径D_A1及所述第2研磨液所含的磨粒A₂的平均一次粒径D_A2，及

(2)所述第3研磨液不含磨粒A₃。

2.根据权利要求1所述的研磨方法，其中，所述第1研磨液不含水溶性高分子P₁。

3.根据权利要求1或2所述的研磨方法，其中，对硅基板进行所述预研磨工序。

4.一种研磨用组合物套组，其为用于权利要求1至3中任一项所述的研磨方法的研磨用组合物套组，其包含：

作为所述第1研磨液或其浓缩液的第1预研磨用组合物，及

作为所述第3研磨液或其浓缩液的第3预研磨用组合物；

所述第1预研磨用组合物与所述第3预研磨用组合物彼此分开保存。

5.根据权利要求4所述的研磨用组合物套组，其包含作为所述第2研磨液或其浓缩液的第2预研磨用组合物，

所述第2预研磨用组合物与所述第1预研磨用组合物及所述第3预研磨用组合物彼此分开保存。