[发明专利]具有腔室的密封装置

说明书

本发明涉及一种用于液压密封可以平移或旋转相对移动相对于彼此移动的组件的密封面的密封装置，所述装置具有坚固的弹性密封装置密封体(1)，其具有至少一个滑动表面(10)，所述至少一个滑动表面(10)被分配给所述组件中的一个的至少一个密封面，多个腔室(2a、2b；22)形成在所述至少一个滑动面(10)中，所述腔室具有朝向所述滑动面(10)彼此分隔开的闭合轮廓。所述腔室(2；2a、2b；22)的所述轮廓具有在轮廓纵向(X)上的较长尺寸(x)以及在轮廓横向(Y)上的较短尺寸(y)。

技术领域

本发明涉及一种用于液压密封在组件上的密封表面的密封装置。

背景技术

在相关技术中，已知例如，在线性旋转或移动的同时针对液体密封壳体中的轴或活塞的密封件。

在密封件的滑动表面与组件或机器部分的待密封的表面之间存在有在干燥状态下较高且在被液体润湿表面的状态下减小的静摩擦和滑动摩擦的摩擦力。已知在操作液体积聚的密封件处提供凹入的腔室。当在适当对齐的压力下时，接收操作液体的这种润滑袋释放积聚的操作液体中的一部分，从而在表面之间产生作为动态密封件的流体静力润滑膜。随后，在静态密封期间，润滑膜再次积聚在腔室中。

而且，腔室导致了在密封件与待密封的表面之间的表面接触的整体表面减小，由此降低了摩擦力的粘附分量。结果，可以降低在密封件与机器部分之间的静摩擦和滑动摩擦。

另外，可以改善密封效果，这是因为操作液体必须经由从密封件的一端到另一端，或者更确切地说，是在密封唇口之间的密封拉伸来通过在其之间具有压力差的部分。

从DE10120403B4已知一种密封体，优选为具有微凹槽的密封卡圈。在作为密封卡圈的一种实施方式中，该密封体包括径向循环的微凹槽，其延伸超过密封唇口的端部并且针对液体或气体介质密封在组件的两个相邻表面之间的间隙。微凹槽通过根据由移动引起的压力降低摩擦力来增加了抗摩擦性能。由此降低了静摩擦和滑动摩擦，并且静摩擦的水平接近滑动摩擦的水平。

EP1611380B1公开了一种基于具有改善的耐磨损性的带凹槽的环形杆密封件的密封布置。一个从属的替代方面描述了采用半球形帽状物或球形帽形状的微结构，其改善了在可以布置在内表面处的杆处的U形杯的抗摩擦性能。由此没有明显的关于提供具有半球形帽状物的微结构的进一步的结构细节。

然而，在具有循环微凹槽的结构中，润滑膜累积流体静力压力的能力易于受到损坏，诸如刮擦，其可能是由来自周围的操作液体的杂质颗粒在微凹槽处的接触表面之间引起的。在任何位置，诸如横向通过相邻凹槽的刮擦或切口处的局部泄露部位因此导致总压力在每个相关的凹槽中下降。结果，在受影响的凹槽的周围区域中不会产生流体静力润滑膜，并且摩擦力可以增加。

在另一方面，所提及的具有半球形帽状物的结构具有以下缺点：其具有腔室的凹入表面与腔室深度的固定比率。因此，具有半球形帽状物的结构可以具有腔室的凸起和凹入的表面部分与深度的比例的比率，这对于具体的应用来说是不利的。

发明内容

因此，本发明的目的是提供一种具有腔室的密封装置，该腔室的流体静力润滑膜的加压更能抵抗局部损坏，特别是由杂质颗粒引起的刮擦。

本发明的另一个目的是提供一种具有腔室的密封装置，该腔室的结构允许针对凸起和凹入部分与深度的表面比率对应用进行优化。

这些目的是通过具有权利要求1的特征的密封装置来解决的。

特别地，用于液压密封在组件上的密封表面的本发明的密封装置的特征在于以下事实：腔室的轮廓在轮廓纵向上具有较长尺寸，并且在轮廓横向上具有较短尺寸。

本发明首次提供了一种作为液压密封件的密封装置，其允许相关于凸起区域、凹入区域和凹入深度对应用进行几何优化，并且其在整个接触表面累积流体静力压力的能力对局部刮擦具有相对抗性且跨越了相邻腔室。因此，可以有利地确保提供流体静力润滑膜的有效且持久的功能。