[发明专利]流体消毒设备和方法

权利要求书

1.一种流体消毒设备，包括：

本体，所述本体包括用于以第一速度接收流体的延伸穿过所述本体的入口、沿所述本体的轴线延伸的反射腔室、和用于从所述本体排出所述流体的延伸穿过所述反射腔室的端部的出口, 其中，所述轴线在所述本体的第一端部与所述本体的第二端部之间延伸，所述反射腔室布置在所述本体的第一端部与第二端部之间；

在所述本体中的流体通道，所述流体通道用于以小于所述第一速度的第二速度并且以沿所述轴线进入所述反射腔室中的方向将来自所述入口的流体引导至所述反射腔室中；和

辐射源，所述辐射源邻近所述本体的第二端部布置并定位成沿与所述轴线大致平行的方向朝向所述出口将消毒辐射输出至所述反射腔室中，

其中，所述流体通道至少部分地围绕所述反射腔室，以及

其中，所述反射腔室由沿所述轴线在所述本体中延伸的内部结构限定，所述流体通道是由所述内部结构限定并且在所述内部结构的外侧上的第一互连的形状或体积，所述反射腔室是由所述内部结构限定并且在所述内部结构的内侧上的第二互连的形状或体积。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述入口的至少开口大致横向于所述轴线。

3.根据权利要求2所述的设备，其中，所述出口的至少开口大致平行于所述轴线。

4.根据权利要求2所述的设备，其中，所述出口的至少开口与所述轴线同轴。

5.根据权利要求4所述的设备，其中，所述辐射源与所述轴线同轴，使得所述消毒辐射的一部分与所述流体一起从所述出口被排出。

6.根据权利要求5所述的设备，其中，被排出的该部分辐射进一步对所述设备下游的流体进行消毒。

7.根据权利要求1所述的设备，其中，所述反射腔室的跨所述轴线的截面是圆形的。

8.根据权利要求1所述的设备，其中，所述本体和所述反射腔室包括沿所述轴线的类似的形状或体积。

9.根据权利要求8所述的设备，其中，所述类似的形状是圆柱形、圆锥形、多边形、角锥形、球形或棱柱形。

10.根据权利要求1所述的设备，其中，所述反射腔室的尺寸和所述辐射源构造成将所述消毒辐射分布在整个所述反射腔室中。

11.根据权利要求1所述的设备，其中，所述出口延伸穿过所述第一端部。

12.根据权利要求11所述的设备，其中，所述入口邻近所述第一端部。

13.根据权利要求1所述的设备，其中，所述反射腔室的内表面包括紫外线反射材料。

14.根据权利要求1所述的设备，其中，所述辐射源包括一个或多个点状源，其中，所述一个或多个点状源沿与所述轴线大致平行的方向发出消毒辐射。

15.根据权利要求1所述的设备，还包括布置在所述辐射源与所述反射腔室之间的窗部，其中，所述消毒辐射穿过所述窗部。

16.根据权利要求15所述的设备，其中，所述窗部将所述辐射源与所述流体密封隔开。

17.根据权利要求1所述的设备，其中，所述消毒辐射包括介于200nm与320nm之间的波长。

18.根据权利要求1所述的设备，其中，所述消毒辐射包括介于230nm与300nm之间的峰值波长。

19.根据权利要求1所述的设备，其中，所述辐射源是紫外发光二极管。