[发明专利]清洁液组合物和使用该清洁液组合物的聚合装置的清洁方法

说明书

本发明涉及一种清洁液组合物和使用该清洁液组合物清洁聚合装置的方法，更具体地，涉及一种包含由化学式1表示的过渡金属化合物(参见本发明的详细说明)；和烃类溶剂的清洁液组合物。

技术领域

相关申请的交叉引用

本申请要求在韩国知识产权局于2017年10月31日提交的韩国专利申请No.10-2017-0143126和于2018年8月28日提交的韩国专利申请No.10-2018-0101358的优先权，这两项专利申请的公开内容通过引用全部并入本说明书中。

技术领域

本发明涉及一种清洁液组合物，更具体地，涉及一种清洁液组合物和使用该清洁液组合物清洁聚合装置的方法。

背景技术

有利于制备高分子量聚合物的溶液聚合方法主要用于使包含二烯的单体聚合成高分子量聚合物。例如，高分子量聚合物如溶液苯乙烯丁二烯橡胶(SSBR)、丁二烯橡胶(BR)或苯乙烯丁二烯苯乙烯嵌段共聚物(SBS)等通过溶液聚合法聚合而成。

然而，当使用溶液聚合法聚合为高分子量聚合物时，高分子量聚合物在聚合反应器中积聚，从而引起聚合反应器中的热交换效率降低、由于积聚的高分子量聚合物导致聚合反应器内部的体积减小而引起生产率降低、以及积聚的聚合物流入聚合反应器的下端而阻碍反应产物传输的问题。

因此，为了解决上述问题，进行喷射清洁，其中，通过定期地直接向反应器提供人力用高压水物理地除去积聚的高分子量聚合物。然而，在喷射清洁的过程中，需要平均5天的除去时间，因此，在相应的时间期间，包括相应聚合反应器的生产设备的操作停止，这对生产率具有不利影响。此外，由于直接对聚合反应器提供人力，因此，总是存在安全事故的可能性，并且存在的问题在于在喷射清洁中使用水，因此在清洁结束之后为了重新开始溶液聚合，特别是阴离子聚合，需要另外的除水等工艺。

因此，作为除去积聚在聚合反应器中的高分子量聚合物的方法，需要一种能够确保生产率和安全性两者的清洁方法来代替诸如喷射清洁的物理方法。因此，本发明提出一种利用能够除去积聚的橡胶的催化剂的化学方法。

发明内容

技术问题

本发明的一个目的是提供一种使用清洁液组合物清洁聚合装置的方法，其中，使用清洁液组合物以化学方式而不是物理方式除去在聚合反应器中积聚的高分子量聚合物。

即，做出本发明以解决现有技术的上述问题，在聚合反应器中添加用于清洁聚合装置的清洁液组合物，以化学方式使在聚合装置中积聚的高分子量聚合物分解并除去，并且一个目的是确保对于直接提供人力的安全性，并且通过缩短聚合装置的清洁时间来确保生产率。

技术方案

在一个总的方面，清洁液组合物包含：由下面化学式1表示的过渡金属化合物；和烃类溶剂：

[化学式1]

在化学式1中，M可以是钌或锇，R¹和R²可以各自独立地是氢原子或由下面化学式2表示的取代基，R¹和R²中的至少一个可以是由下面化学式2表示的取代基，X¹和X²可以各自独立地是卤素原子，Ph可以是苯基，

[化学式2]

在化学式2中，R³和R⁴可以各自独立地是C1至C10烷基；或者R³和R⁴可以彼此连接形成饱和或不饱和的5元环。