[发明专利]抛光设备及抛光方法

权利要求书

1.一种抛光设备，其包括：

抛光机构，其经配置以在抛光工艺期间抛光晶片的表面，所述晶片的所述表面具有表面区域，所述晶片包括具有上表面的基底并包括在所述基底的所述上表面上的结构，所述上表面具有表面碳浓度，所述结构具有比所述表面碳浓度更低的碳浓度；所述抛光机构在所述抛光工艺期间在所述晶片的所述表面上提供小于或等于1磅/平方英psi的垂直力，所述抛光机构在所述抛光工艺期间将新鲜浆液转换为已用过浆液；

至少一个发射器，其经配置以在所述已用过浆液在所述表面区域外部时将电磁辐射引导到所述已用过浆液上或通过所述已用过浆液；

至少一个检测器，其经配置以检测所述电磁辐射穿过所述已用过浆液的透射或所述电磁辐射从所述已用过浆液的反射；

识别系统，其与所述至少一个检测器耦合且经配置以识别指示已达到所述抛光工艺的端点的所述已用过浆液的至少一个性质且经配置以在识别所述已用过浆液的所述性质之后发送触发信号，所述至少一个性质包括所述已用过浆液内存在碳；及

控制电路，其与所述识别系统耦合且经配置以基于接收来自所述识别系统的所述触发信号而停止所述抛光工艺。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述识别系统包括拉曼光谱。

3.根据权利要求1所述的设备，其中所述性质是所述已用过浆液内的碳的阈值浓度。

4.根据权利要求1所述的设备，其中通过所述抛光工艺产生所述已用过浆液内的所述性质与所述停止所述抛光工艺之间存在滞后时间；且其中所述滞后时间小于或等于5秒。

5.根据权利要求1所述的设备，其中通过所述抛光工艺产生所述已用过浆液内的所述性质与所述停止所述抛光工艺之间存在滞后时间；且其中所述滞后时间小于或等于2秒。

6.一种抛光设备，其包括：

台板，其具有经配置以在抛光工艺期间自旋的上表面；

晶片固持器，其经配置以保持晶片且在所述抛光工艺期间朝向所述台板的所述上表面按压所述晶片，所述晶片具有面向所述台板的所述上表面的晶片表面，所述晶片表面具有表面区域，所述晶片固持器经配置以在所述抛光工艺期间使所述晶片相对于所述台板的所述上表面自旋且经配置以在所述抛光工艺期间使所述晶片跨所述台板的所述上表面横向扫掠；在所述抛光工艺期间用小于或等于1磅/平方英寸psi的向下力使所述晶片按压朝向所述台板的所述上表面；

浆液施配机构，其相邻于所述台板的所述上表面；

屏蔽，其围绕所述台板的横向周边且经配置以在所述抛光工艺期间阻挡横向排出的已用过浆液；

池，其在所述屏蔽下方且经配置以收集由所述屏蔽阻挡的所述已用过浆液；

出口，其在所述池中，所述已用过浆液通过所述出口离开所述池；

出口路径，其在所述出口下游且所述已用过浆液从所述池沿着所述出口路径流动；

至少一个发射器，其经配置以在所述已用过浆液沿着所述出口路径在所述晶片的所述表面区域外部流动通过导管时将电磁辐射引导到所述已用过浆液上或通过所述已用过浆液，所述至少一个发射器包含经配置以在所述已用过浆液在所述导管内流动时将所述电磁辐射引导通过所述已用过浆液的发射器；

至少一个检测器，其经配置以检测所述电磁辐射穿过所述已用过浆液的透射或所述电磁辐射从所述已用过浆液的反射；

识别系统，其与所述至少一个检测器耦合且经配置以识别指示已达到所述抛光工艺的端点的所述已用过浆液的性质且经配置以在识别所述已用过浆液的所述性质之后发送触发信号；及

控制电路，其与所述识别系统耦合且经配置以基于接收来自所述识别系统的所述触发信号而停止所述抛光工艺，其中在所述抛光工艺已进行持续时间之后预期所述抛光工艺的所述端点；且所述设备包括喷洒机构，所述喷洒机构经配置以在所述持续时间期间且在预期所述抛光工艺的所述端点之前的某一时间清洗所述导管；以及

闸，其经配置以在所述持续时间期间且在预期所述抛光工艺的所述端点之前的第一周期内阻挡所述已用过浆液流动通过所述导管。

7.根据权利要求6所述的设备，其中所述性质是所述已用过浆液内存在成分。