[发明专利]摄像元件、层叠式摄像元件和固态摄像装置在审
申请号: | 201880051572.9 | 申请日: | 2018-05-18 |
公开(公告)号: | CN111033741A | 公开(公告)日: | 2020-04-17 |
发明(设计)人: | 坂东雅史;齐藤阳介 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;H01L31/02;H01L31/10;H04N5/369;H01L27/30 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 陈桂香;曹正建 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 摄像 元件 层叠 固态 装置 | ||
1.一种摄像元件,其包括光电转换单元,所述光电转换单元是通过把第一电极、光电转换层和第二电极层叠起来而形成的,
其中,在所述第一电极与所述光电转换层之间,从所述第一电极侧形成有第一半导体材料层和第二半导体材料层,并且所述第二半导体材料层与所述光电转换层接触,
所述光电转换单元还包括绝缘层和电荷累积电极,所述电荷累积电极与所述第一电极分开布置着,且所述电荷累积电极隔着所述绝缘层面对着所述第一半导体材料层,并且
当所述第一半导体材料层的电子迁移率由μ1表示,并且所述第二半导体材料层的电子迁移率由μ2表示时,满足μ2<μ1。
2.根据权利要求1所述的摄像元件,其中,当所述第二半导体材料层的电离势由IP2表示,并且所述光电转换层的电离势由IP0表示时,满足IP0<IP2。
3.根据权利要求2所述的摄像元件,其中,当所述光电转换层的电子迁移率由μ0表示时,满足μ0≤μ2。
4.根据权利要求2所述的摄像元件,其中,当所述第一半导体材料层的电子亲和力由EA1表示,所述第二半导体材料层的电子亲和力由EA2表示,所述光电转换层的电子亲和力由EA0表示时,满足EA0≤EA2≤EA1。
5.根据权利要求3所述的摄像元件,其中,当所述第一半导体材料层的电子亲和力由EA1表示,所述第二半导体材料层的电子亲和力由EA2表示,所述光电转换层的电子亲和力由EA0表示时,满足EA0≤EA2≤EA1。
6.根据权利要求1所述的摄像元件,其中,当所述光电转换层的电子迁移率由μ0表示时,满足μ0≤μ2。
7.根据权利要求6所述的摄像元件,其中,当所述第一半导体材料层的电子亲和力由EA1表示,所述第二半导体材料层的电子亲和力由EA2表示,所述光电转换层的电子亲和力由EA0表示时,满足EA0≤EA2≤EA1。
8.根据权利要求1所述的摄像元件,其中,当所述第一半导体材料层的电子亲和力由EA1表示,所述第二半导体材料层的电子亲和力由EA2表示,所述光电转换层的电子亲和力由EA0表示时,满足EA0≤EA2≤EA1。
9.一种摄像元件,其包括光电转换单元,所述光电转换单元是通过把第一电极、光电转换层和第二电极层叠起来而形成的,
其中,在所述第一电极与所述光电转换层之间,从所述第一电极侧形成有第一半导体材料层和第二半导体材料层,并且所述第二半导体材料层与所述光电转换层接触,
所述光电转换单元还包括绝缘层和电荷累积电极,所述电荷累积电极与所述第一电极分开布置着,且所述电荷累积电极隔着所述绝缘层面对着所述第一半导体材料层,并且
当所述第二半导体材料层的电离势由IP2表示,所述光电转换层的电离势由IP0表示时,满足IP0<IP2。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的