[发明专利]振动隔离系统和光刻设备

说明书

本发明涉及一种振动隔离系统(IS)，其包括支撑件(10)、前向致动器(20)和返回装置(40)。支撑件用于将主体(2)支撑到基座(1)上。支撑件具有主体接合表面(12)和基座接合表面(11)。基座接合表面布置为联接至基座。支撑件在联接状态中使主体接合表面联接到主体。支撑件在非联接状态下使主体接合表面与主体分离。前向致动器在联接状态下使主体和主体接合表面一起相对于基座沿第一方向从第一初始位置移动到终点位置。返回装置被配置为在非联接状态下使主体接合表面相对于主体与第一方向反向地从终点位置移动到第二初始位置。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2017年8月8日提交的欧洲申请EP 17185209.8的优先权，该欧洲申请的全部内容以引用的方式并入本文中。

技术领域

本发明涉及一种振动隔离系统和包括该振动隔离系统的光刻设备。

背景技术

光刻设备是一种将所需图案施加到衬底上(通常在衬底的目标部分上)的机器。例如，光刻设备可以用于集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可替代地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成于集成电路的单个层上的电路图案。可以将该图案转印到衬底(例如硅晶片)的目标部分(例如包括管芯的一部分、一个或更多个管芯)上。通常，通过将图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行图案的转印。通常，单个衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。现有的光刻设备包括所谓的步进器，其中通过将整个图案一次性地曝光到目标部分上来照射每个目标部分，以及包括所谓的扫描器，其中通过利用在给定方向(“扫描”方向)上的辐射束扫描图案的同时，同步地扫描与该方向平行或反平行的衬底，来照射每个目标部分。还可以通过将图案压印到衬底上而将图案从图案形成装置转印到衬底。

在光刻设备中，必须非常精确地定位一些部件，以便在衬底上获得所需的图案质量，例如在聚焦和位置方面。这样的部件例如是投影系统的光学元件，其将图案化的辐射束投影到衬底上，以及例如是传感器的元件，其监视例如衬底支撑件或投影系统的光学元件的位置。

诸如光学元件和传感器元件的位置敏感元件通常位于光刻设备内部的深处。通常，这种位置敏感元件由振动隔离系统支撑，以防止来自周围的振动降低位置敏感元件的位置精度。位置敏感元件通常设置有位置调整器，该位置调整器允许对位置敏感元件的位置进行小的调整，例如，以补偿热膨胀。但是，可以调整的位置的范围相对较小。如果必须对位置进行较大的调整(例如在光刻设备的初始化期间)，则必须打开光刻机，有时甚至部分地拆卸该光刻机，以便调整特定元件的位置。当相关元件位于真空室中时，这尤其麻烦且耗时。

发明内容

期望提供一种用于支撑主体的振动隔离系统，该主体相对于基座可以移动的范围被增大。

根据本发明的实施例，提供了一种振动隔离系统，所述振动隔离系统被布置为用于将主体支撑在基座上，所述振动隔离系统包括：

-支撑件，所述支撑件用于将所述主体支撑在所述基座上，其中，所述支撑件具有主体接合表面和基座接合表面，

其中，所述基座接合表面被布置为联接至所述基座，

其中，所述支撑件被布置为在联接状态下使所述主体接合表面联接至所述主体，

其中，所述支撑件布置为在非联接状态下使所述主体接合表面与所述主体解除联接；

-前向致动器，所述前向致动器被配置为在联接状态下使所述主体和所述主体接合表面一起相对于所述基座沿第一方向从第一初始位置移动到终点位置，

-返回装置，所述返回装置被配置为在非联接状态下使所述主体接合表面相对于所述主体与所述第一方向反向地从所述终点位置移动到第二初始位置。

在本发明的另一个实施例中，提供了一种光刻设备，该光刻设备包括根据本发明的振动隔离系统。

附图说明