[发明专利]具有用于过滤紫外线过程辐射的光学元件的激光加工头和对应的激光加工方法

权利要求书

1.一种激光加工头(1)，其用于借助激光射束(3)对工件(2)进行激光加工，该激光加工头具有布置在激光射束(3)的光路中的至少一个光学元件，

其特征在于，

所述至少一个光学元件实施为保护玻璃，所述保护玻璃在激光射束(3)的光路中设置为最后的或次后的光学元件，所述保护玻璃具有对于激光射束(3)的激光波长透射的并且对于过程辐射(7)的波长小于400纳米的辐射分量高反射的涂层(8)，所述保护玻璃构造用于从来自工件(2)的过程辐射(7)中过滤掉波长小于400纳米的辐射分量。

2.根据权利要求1所述的激光加工头，其特征在于，所述涂层(8)对于在900至1100纳米之间的激光波长或对于在10.6微米范围中的激光波长具有至少99％的透射率。

3.根据权利要求1所述的激光加工头，其特征在于，所述涂层(8)对于过程辐射(7)的波长小于400纳米的辐射分量具有至少90％的反射率。

4.根据权利要求1所述的激光加工头，其特征在于，所述保护玻璃由石英玻璃或硒化锌构成。

5.根据权利要求1所述的激光加工头，其特征在于，所述涂层(8)通过干涉层系统构成，该干涉层系统由多个层构成，所述涂层实施成，使得：对于激光射束(3)到保护玻璃上的小于15°的入射角度(α)，所述涂层(8)导致在各层上反射的辐射分量的相消干涉；并且，对于过程辐射(7)的波长小于400纳米的辐射分量，在过程辐射(7)到保护玻璃上的小于15°的入射角度(β)的情况下，所述涂层导致所反射的辐射分量的相长干涉。

6.一种激光加工头(1)，其用于借助激光射束(3)对工件(2)进行激光加工，所述激光加工头具有布置在激光射束(3)的光路中的至少一个光学元件，其特征在于，所述至少一个光学元件实施为反射镜，所述反射镜具有对于激光射束(3)的激光波长反射的并且对于过程辐射(7)的波长小于400纳米的辐射分量高吸收的涂层(13)，所述反射镜构造用于从来自工件(2)的过程辐射(7)中过滤掉波长小于400纳米的辐射分量。

7.根据权利要求6所述的激光加工头，其特征在于，所述涂层(13)对于在900至1100纳米之间的激光波长或在10.6微米范围中的激光波长具有至少97％的反射率。

8.根据权利要求6所述的激光加工头，其特征在于，所述涂层(13)对于过程辐射(7)的波长小于400纳米的辐射分量具有至少90％的吸收率。

9.根据权利要求6所述的激光加工头，其特征在于，所述反射镜与散热器(15)处于热接触中。

10.根据权利要求1所述的激光加工头，其特征在于，所述涂层(8；13)对于可见的过程辐射(7a)具有大于50％的透射率。

11.根据权利要求1所述的激光加工头，其特征在于，所述保护玻璃具有编码部(9)，该编码部用于将保护玻璃方位正确地装入到激光加工头(1)中。

12.一种用于借助激光射束(3)激光加工工件(2)的方法，所述激光射束具有大于6千瓦的功率，其中，激光射束(3)通过根据权利要求1或6所述的激光加工头(1)被指向到工件(2)上，其中，在所述激光加工中，在所述工件(2)上产生过程辐射(7)，其中，从来自所述工件(2)的所述过程辐射(7)中过滤掉波长小于400纳米的辐射分量。

13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述激光射束具有在900至1100纳米之间的或在10.6微米范围中的激光波长。