[发明专利]浸渍显微镜检查

说明书

本发明涉及一种用于使用显微镜对样本成像的显微镜物镜，所述显微镜物镜(7)具有由支架(8b)围绕的前透镜(8)，并且被设计用于在浸渍液体(9)的情况下的显微镜检查。在所述显微镜物镜中，所述前透镜(8)和/或其支架(8b)设置有涂层(10)，所述涂层(10)可以在排斥所述浸渍液体(9)的状态与不排斥所述浸渍液体(9)的状态之间切换。

发明领域

本发明涉及一种用于使用显微镜对样品成像的显微镜物镜，其中，显微镜物镜包括被支架围绕的前透镜并且被实施用于在浸渍液体的情况下的显微镜检查。此外，本发明涉及一种用于通过浸渍显微镜检查来检查要设置在样品载体上或盖玻片下的样品的样品载体或盖玻片。本发明同样涉及一种用于在显微镜检查过程中使用浸渍显微镜通过显微镜检查来检查样品的方法，其中使用包括由支架围绕的前透镜的显微镜物镜。最后，本发明还涉及一种包括前述类型的显微镜物镜的浸渍显微镜。

背景技术

现有技术已经公开了用于确保显微镜物镜的前透镜用浸渍介质尽可能完全地润湿的各种方法。EP 1717628 A1和EP 2256535 A1公开了一种用于倒置显微镜物镜(即，从下方通过显微镜检查来检查样品的显微镜物镜)的机构。在物镜壳体的前边缘上设置了机构，所述机构防止放置在前透镜上的浸渍液滴在物镜壳体的前边缘上方流走。此外，提供了以目标方式向下排出浸渍液体的流出管。边缘的内部区域被配置成排斥显微镜被设计用于其的浸渍液体。周围的外部区域以完全相反的方式来配置，并且因此它将到达它的浸渍液体排出到外部。参考进一步的公开，JP 4603295讨论了避免物镜内部被浸渍液体污染的各种概念。其中描述的两种解决方案对应于指定EP文献的解决方案。在日本公开中描述的第三种解决方案在物镜上设置凹槽，所述凹槽防止过量的浸渍液体流入物镜中。此外，对于基于油浸的显微镜，JP 4603295提出了在透镜表面上的亲脂性涂层，所述亲脂性涂层被透镜表面的边缘上的疏脂性涂层包围。因此，现有技术涉及避免物镜被浸渍液体污染的各种方法或以目标方式排出过量浸渍液体。

当使用浸渍介质时，特别是在扫描显微镜检查的情况下，出现困难。物镜能够在样品上方移位的行进速度受到在太高的移动速度下产生剪切力的事实的限制，所述剪切力可能导致浸渍膜撕裂或导致弹性浸渍介质的不可接纳变形。在弹性浸渍介质的情况下，过大的剪切力有时可以使盖玻片移位，并因此导致样品被破坏。未完全固定的样品保持器也可以以这种方式移位，从而使得不可能再次接近样品中定义的坐标。这些问题只能通过在显微镜检查过程开始时使用过量的浸渍介质来抵消，以便补偿由于行进速度和所形成的剪切力而导致的浸渍介质损失或变形的事实，从而导致光束路径的部分没有浸渍介质。然而，因此，样品变得被浸渍介质污染，并且浸渍介质消耗有时相当高，这是昂贵的。

特别是在可以与不同的浸渍液体一起使用的显微镜物镜的情况下，对于使用者来说，移除浸渍液体是冗长乏味的。物镜被浸渍液体污染是一个问题。受污染的浸渍物镜导致差的成像质量，不适合于当前显微镜检查过程的浸渍液体的残留物粘附到所述受污染的浸渍物镜。

发明内容

因此，本发明基于确保显微镜检查中一致的高成像质量的目标。

在独立权利要求中定义了本发明。从属权利要求定义了优选的配置。

用于使用浸渍显微镜对样品成像的显微镜物镜包括前透镜。这由支架围绕。其被实施为用浸渍液体的显微镜检查。前侧(例如，所述前透镜和/或其支架)可以在排斥所述浸渍液体的状态与不排斥或甚至吸引所述浸渍液体的状态之间切换。作为替代方案或除此之外，样品载体或盖玻片具有这样的配置。这在每种情况下可以通过表面处理来实现，所述表面处理赋予所期望的、可切换的排斥性质。该处理可以是涂层。同样地，结构可以引入到表面中，所述结构产生所述性质，或者所述表面可以以一些其它方式(举例来说，化学地)处理，以便获得所述性质。就下文提到的涂层来说，这纯粹是以实例方式。