[发明专利]曝光装置在审
申请号: | 201880053913.6 | 申请日: | 2018-08-28 |
公开(公告)号: | CN111033388A | 公开(公告)日: | 2020-04-17 |
发明(设计)人: | 米泽良 | 申请(专利权)人: | 株式会社V技术 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G01B11/00;H01L21/68 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 柯瑞京 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 | ||
1.一种曝光装置,其特征在于,具备:
平台,在上侧形成了作为大致水平的面的第一面;
掩模保持部,是被设置成能够在所述第一面沿第一方向以及与所述第一方向大致正交的第二方向而移动的俯视观察下大致长方形形状的大致板状的掩模保持部,在作为与所述第一面对置的面的相反侧的面的大致水平的第二面,载置掩模;
驱动部,使所述掩模保持部在所述第一方向以及所述第二方向移动;
模板,邻接于所述掩模保持部的所述第二面并邻接于与所述第一方向大致正交的第三面来设置,在上侧的面形成了大致十字形状的十字图案;
光照射部,设置在所述掩模保持部的上方;
相机,接收从所述光照射部照射并经过了所述模板的光;
读取部,邻接于所述光照射部而设置,或者设置于所述光照射部;以及
控制部,取得作为在所述掩模描绘的图案的位置以及形状所相关的信息的描绘信息,一边驱动所述驱动部而使所述掩模保持部在水平方向移动,一边根据所述描绘信息来进行从所述光照射部向所述掩模照射光的描绘处理,
在所述掩模保持部载置在所述掩模描绘包含被排列成二维状的多个十字位置的修正用基板图案而得的修正用基板,
所述控制部进行如下处理:
通过所述读取部,在初始状态、从所述初始状态旋转大致90度、大致180度以及大致270度后的状态的每一个状态下,读取所述修正用基板,并根据该读取的结果来制作对所述描绘信息进行修正的修正表,
通过所述读取部读取所述十字图案,将该读取的结果与所述修正表进行比较,来制作与所述模板的变形相关的模板修正表,并且
在所述描绘处理中,根据所述修正表来修正所述描绘信息,并且,一边通过所述驱动部使所述掩模保持部移动,一边从所述光照射部向所述模板照射光,根据由所述相机摄像的图像来取得所述光照射部的所述第一方向的位置偏移以及所述第二方向的位置偏移,根据所述第一方向的位置偏移以及所述第二方向的位置偏移、与所述模板修正表,来修正所述描绘信息,并且对向所述光照射部输出的信号的定时进行调整。
2.根据权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,
所述控制部进行如下处理:
在为了使所述模板位于所述光照射部的下侧而通过所述驱动部使所述掩模保持部发生了移动的状态下,从所述光照射部向所述模板照射光,并根据由所述相机摄像的图像来取得所述光照射部的中心位置,
在为了使所述模板位于所述读取部的下侧而通过所述驱动部使所述掩模保持部发生了移动的状态下,由所述读取部读取所述十字图案,并取得所述读取部的中心位置,并且
求取所述光照射部的中心位置与所述读取部的中心位置之间的差异,并根据该差异来修正所述修正表。
3.根据权利要求2所述的曝光装置,其特征在于,
所述控制部从所述光照射部照射作为大致十字形状的光的反十字图案,由所述相机读取所述反十字图案与所述十字图案重叠后的图像,由此来取得所述读取部的中心位置。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光装置,其特征在于,
所述控制部生成修正值,并使用该生成的修正值来修正所述描绘信息,其中,该修正值使在所述初始状态下读取所述修正用基板而得的结果与在使所述修正用基板旋转了大致180度的状态下读取所述修正用基板而得的结果一致,并使在使所述修正用基板旋转了大致90度的状态下读取所述修正用基板而得的结果、与在使所述修正用基板旋转了大致270度的状态下读取所述修正用基板而得的结果一致。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的曝光装置,其特征在于,
所述控制部在所述修正用基板被载置于所述掩模保持部的大致中央的第一状态、以及所述修正用基板从所述第一状态以所述修正用基板的大致一半的量沿所述第二方向移动后的第二状态下,读取所述修正用基板。
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