[发明专利]冷溶剂和酸气脱除的集成有效
申请号: | 201880054242.5 | 申请日: | 2018-08-13 |
公开(公告)号: | CN110997108B | 公开(公告)日: | 2022-07-15 |
发明(设计)人: | D·W·马尔;P·S·诺斯罗普;S·拉姆库马尔;R·D·丹顿 | 申请(专利权)人: | 埃克森美孚上游研究公司 |
主分类号: | C07C7/11 | 分类号: | C07C7/11;C10L3/10;B01D53/14;B01D53/18;B01D53/22 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 杨立芳 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 溶剂 脱除 集成 | ||
1.从天然气料流分离杂质的方法,包括:
在膜分离系统中从所述天然气料流分离二氧化碳(CO2)和硫化氢(H2S),从而产生经部分处理气体料流和渗透气体料流,所述渗透气体料流基本上由H2S和CO2组成,和所述经部分处理气体料流基本上由天然气组成,其中所述经部分处理气体料流和所述渗透气体料流处于比所述天然气料流更低的温度;
使所述经部分处理气体料流与第一冷却贫溶剂料流在第一接触器中接触以从所述经部分处理气体料流分离H2S,从而产生第一富溶剂料流和经完全处理气体料流,其中所述第一冷却贫溶剂料流包含位阻胺;
使所述渗透气体料流与第二冷却贫溶剂料流在第二接触器中接触以从中分离H2S以产生第二富溶剂料流和CO2气体料流,其中所述第二冷却贫溶剂料流包含位阻胺;和
从所述第一和第二富溶剂料流除去H2S和残留CO2,从而产生所述第一和第二贫溶剂料流。
2.权利要求1所述的从天然气料流分离杂质的方法,还包括:
在所述经部分处理气体料流与所述第一冷却贫溶剂料流接触之前将所述经部分处理气体料流冷却;和
在所述渗透气体料流与所述第二冷却贫溶剂料流接触之前将所述渗透气体料流冷却。
3.权利要求2所述的从天然气料流分离杂质的方法,其中使用一个或多个冷却器实现所述经部分处理气体料流和所述渗透气体料流的冷却。
4.权利要求1所述的从天然气料流分离杂质的方法,还包括在从中除去H2S后将所述第一和第二贫溶剂料流中的至少一个冷却到小于环境温度。
5.权利要求1所述的从天然气料流分离杂质的方法,其中从所述第一和第二富溶剂料流除去H2S包括在再生器中从所述第一和第二富溶剂料流分离H2S和产生再生溶剂料流。
6.权利要求5所述的从天然气料流分离杂质的方法,还包括:
将所述再生溶剂料流划分而形成所述第一和第二贫溶剂料流。
7.权利要求5所述的从天然气料流分离杂质的方法,包括:
由所述再生溶剂料流形成所述第二贫溶剂料流;和
由所述第二富溶剂料流形成所述第一贫溶剂料流。
8.权利要求1所述的从天然气料流分离杂质的方法,还包括:
从所述经完全处理气体料流除去酸气;和
将所述经完全处理料流脱水。
9.权利要求8所述的从天然气料流分离杂质的方法,其中所述酸气包含CO2,和还包括:
压缩从所述经完全处理气体料流脱除的CO2;和
将所述经压缩CO2与所述CO2气体料流结合。
10.权利要求1-9中任一项所述的从天然气料流分离杂质的方法,其中所述第一和第二接触器中的至少一个是并流接触系统,和还包括:
在同轴位于管子内的并流接触系统中接收包含所述经部分处理气体料流和所述渗透气体料流之一的气体料流和包含所述第一和第二冷却贫溶剂料流之一的液体料流,所述并流接触系统包括液滴发生器和传质段;
使用所述液滴发生器,由所述液体料流产生液滴并将所述液滴分散到所述气体料流中;
使用所述传质段,提供具有蒸气相和液相的混合两相流,其中所述液相包括具有从所述气体料流吸收的H2S和CO2的液体料流,和其中所述蒸气相包括所述气体料流;和
将所述蒸气相与所述液相分离。
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