[发明专利]衍射导光板和制造衍射导光板的方法有效
申请号: | 201880054388.X | 申请日: | 2018-10-23 |
公开(公告)号: | CN111065942B | 公开(公告)日: | 2022-01-07 |
发明(设计)人: | 尹晶焕;辛富建;朴正岵;许殷奎;秋素英 | 申请(专利权)人: | 株式会社LG化学 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18;F21V8/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 梁笑;孙雅雯 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 衍射 导光板 制造 方法 | ||
1.一种衍射导光板,包括:
第一衍射基底;和
设置在所述第一衍射基底上的第二衍射基底,
其中所述第一衍射基底包括在一个表面上的第一衍射光栅层和在另一表面上的第二衍射光栅层,
所述第二衍射基底包括在一个表面上的第三衍射光栅层和在另一表面上的应力补偿层,
所述第一衍射光栅层分离波长为550nm或更大且700nm或更小的光,
所述第二衍射光栅层分离波长为400nm或更大且550nm或更小的光,
所述第三衍射光栅层分离波长为450nm或更大且650nm或更小的光,以及
所述应力补偿层在与所述第三衍射光栅层的应力方向相同的方向上具有应力。
2.根据权利要求1所述的衍射导光板,其中所述应力补偿层包括防反射图案。
3.根据权利要求1所述的衍射导光板,其中所述第一衍射基底和所述第二衍射基底中的每一者的厚度为0.1mm或更大且2mm或更小。
4.根据权利要求1所述的衍射导光板,其中所述第一衍射基底的衍射光栅层与所述第二衍射基底间隔开。
5.根据权利要求1所述的衍射导光板,其中所述第一衍射光栅层至所述第三衍射光栅层中的每一者包括光入射的第一区域、入射的光扩展和移动的第二区域和提取移动的光的第三区域,
所述第一区域分别包括在所述第一衍射光栅层至所述第三衍射光栅层中的每一者的对应位置处,以及
所述第三区域包括在所述第一衍射光栅层至所述第三衍射光栅层中的每一者的对应位置处。
6.根据权利要求5所述的衍射导光板,其中所述第一衍射光栅层至所述第三衍射光栅层中的每一者的所述第三区域的光折射率从一侧至另一侧逐渐增加。
7.根据权利要求5所述的衍射导光板,其中所述第三区域包括衍射图案,所述衍射图案包括深度从一侧至另一侧逐渐增加的倾斜图案结构。
8.根据权利要求5所述的衍射导光板,其中所述第三区域包括衍射图案,所述衍射图案包括占空比从一侧至另一侧逐渐增加的图案结构。
9.一种制造根据权利要求1所述的衍射导光板的方法,所述方法包括:
制备第一衍射基底,所述第一衍射基底包括在一个表面上的第一衍射光栅层和在另一表面上的第二衍射光栅层;
制备第二衍射基底,所述第二衍射基底包括在一个表面上的第三衍射光栅层和在另一表面上的应力补偿层;以及
将所述第一衍射基底和所述第二衍射基底附接。
10.根据权利要求9所述的方法,其中第一衍射基底的制备包括在第一基底的一个表面上形成所述第一衍射光栅层以及在所述第一基底的另一表面上形成所述第二衍射光栅层以制造所述第一衍射基底。
11.根据权利要求9所述的方法,其中第二衍射基底的制备包括在第二基底的一个表面上形成所述第三衍射光栅层以及在所述第二基底的另一表面上形成所述应力补偿层以制造所述第二衍射基底。
12.根据权利要求9所述的方法,其中第二衍射基底的制备包括在所述应力补偿层上形成防反射图案。
13.根据权利要求12所述的方法,其中所述第一衍射光栅层至所述第三衍射光栅层和所述应力补偿层中的每一者通过使用利用可光固化树脂组合物和压印模具的压印法来形成。
14.根据权利要求12所述的方法,其中所述第一衍射光栅层至所述第三衍射光栅层和所述应力补偿层中的每一者通过使用光刻法或激光蚀刻法来形成。
15.根据权利要求9所述的方法,其中所述第一衍射基底和所述第二衍射基底的附接包括通过使用间隔件将所述第一衍射基底和所述第二衍射基底附接成使得所述第一衍射基底的衍射光栅层与所述第二衍射基底间隔开。
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