[发明专利]图案曝光方法及图案曝光装置有效
| 申请号： | 201880055472.3 | 申请日： | 2018-10-03 |
| 公开（公告）号： | CN111263919B | 公开（公告）日： | 2022-06-21 |
| 发明（设计）人： | 杉本重人 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;朴秀玉 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 图案 曝光 方法 装置 | ||
1.一种图案曝光方法，基于曝光图像数据对光束进行接通或断开控制的同时进行扫描，并在曝光面上描绘图案，该图案曝光方法的特征在于，具备如下步骤：
在所述曝光面上划分光束的最小曝光单位，以所述最小曝光单位的集合特定所述曝光图像数据中校正所需要的光束的接通区域；
按所述接通区域内的最小曝光单位累积所述光束的强度分布，并求出所述接通区域内的累积强度分布；
对所述累积强度分布与设定的阈值进行比较而求出在所述曝光面上连结所述累积强度分布与所述阈值一致的点而成的轮廓来作为累积强度轮廓；及
在所述接通区域的外侧按所述最小曝光单位设定接通光束的接通单位来校正所述曝光图像数据，以使被所述接通区域的外缘和所述累积强度轮廓包围的差分面积变小。
2.根据权利要求1所述的图案曝光方法，其特征在于，
所述接通单位被设定于所述曝光图像数据中平面角部的附近。
3.根据权利要求1所述的图案曝光方法，其特征在于，
临时设定所述接通单位，仅在临时设定的所述接通单位所影响的区域重新求出所述累积强度轮廓，当所述差分面积变小时，确定临时设定的所述接通单位的设定。
4.根据权利要求2所述的图案曝光方法，其特征在于，
临时设定所述接通单位，仅在临时设定的所述接通单位所影响的区域重新求出所述累积强度轮廓，当所述差分面积变小时，确定临时设定的所述接通单位的设定。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的图案曝光方法，其特征在于，
所述接通单位被设定成抑制所述累积强度轮廓突出在所述接通区域的外缘的外侧的突出量。
6.一种图案曝光装置，基于曝光图像数据，对光束进行接通或断开控制的同时进行扫描，并在曝光面上描绘图案，该图案曝光装置的特征在于，
具备校正所述曝光图像数据的数据校正部，
该数据校正部具备如下运算处理部：
在所述曝光面上划分光束的最小曝光单位，以所述最小曝光单位的集合特定所述曝光图像数据中校正所需要的光束的接通区域；
按所述接通区域内的最小曝光单位累积所述光束的强度分布，并求出所述接通区域内的累积强度分布；
对所述累积强度分布与设定的阈值进行比较而求出在所述曝光面上连结所述累积强度分布与所述阈值一致的点而成的轮廓来作为累积强度轮廓；及
在所述接通区域的外侧按所述最小曝光单位设定接通光束的接通单位来校正所述曝光图像数据，以使被所述接通区域的外缘和所述累积强度轮廓包围的差分面积变小。
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