[发明专利]用于在小量测目标上对准的拍频图案

权利要求书

1.一种用于光刻过程的形成在衬底上的目标，所述目标包括：

对准结构；和

量测结构，具有大于所述对准结构的面积；

其中所述对准结构包括被布置成当用源辐射照射所述对准结构时产生拍频图案的结构，所述拍频图案使得能够探测所述量测结构的位置用于测量。

2.根据权利要求1所述的目标，其中所述拍频图案是沿着所述对准结构的图像的一系列峰和谷。

3.根据任一前述权利要求所述的目标，其中所述对准结构所包括的所述结构由在所述衬底的单层中多条间隔开的直线提供。

4.根据权利要求3所述的目标，其中所述线的宽度沿着所述结构变化。

5.根据权利要求3或4所述的目标，其中线宽的变化以大于所述量测结构的节距的周期周期性地重复。

6.根据权利要求5所述的目标，其中线宽的变化以比所述量测结构的节距大3倍至50倍之间的周期周期性地重复。

7.根据权利要求3至权利要求6中任一项所述的目标，其中相邻线之间的线间隔实质上是恒定的。

8.根据权利要求3至权利要求7中任一项所述的目标，其中每个线间隔接近于或为所述量测结构的节距。

9.根据权利要求8所述的目标，其中每个线间隔在所述量测结构的节距的上下10％内。

10.根据权利要求5至权利要求9中任一项所述的目标，其中线宽和线宽重复的周期依赖于所述源辐射的波长被确定。

11.根据权利要求1或权利要求2所述的目标，其中所述对准结构所包括的所述结构由在所述衬底的多个层中的每一个中的光栅提供。

12.根据权利要求11所述的目标，其中：

所述衬底的第一层包括具有第一节距的第一光栅；和

所述衬底的第二层包括具有不同于所述第一节距的第二节距的第二光栅。

13.根据权利要求12所述的目标，其中所述第一节距和第二节距接近于所述量测结构的节距。

14.根据权利要求13所述的目标，其中所述第一节距和第二节距在所述量测结构的节距的上下10％内。

15.根据权利要求14所述的目标，其中所述第一节距和第二节距具有大的最小公倍数。