[发明专利]修饰的封闭端DNA(CEDNA)

权利要求书

1.一种具有共价封闭端的非病毒无衣壳DNA载体(ceDNA载体)，其中所述ceDNA载体包含至少一个可操作地定位在不对称反向末端重复序列(不对称ITR)之间的异源核苷酸序列，其中所述不对称ITR中的至少一个包含功能性末端解离位点和Rep结合位点。

2.根据权利要求1所述的ceDNA载体，其中所述ceDNA载体在用所述ceDNA载体上具有单个识别位点的限制酶消化并通过天然和变性凝胶电泳二者进行分析时，与线性和非连续DNA对照相比，显示出线性且连续DNA的特征性条带。

3.根据权利要求1或2所述的ceDNA载体，其中所述不对称ITR序列中的一个或多个来自选自细小病毒、依赖病毒和腺相关病毒(AAV)中的病毒。

4.根据权利要求3所述的ceDNA载体，其中所述不对称ITR来自不同的病毒血清型。

5.根据权利要求4所述的ceDNA载体，其中所述一个或多个不对称ITR来自选自AAV1、AAV2、AAV3、AAV4、AAV5、AAV6、AAV7、AAV8、AAV9、AAV10、AAV11和AAV12中的AAV血清型。

6.根据权利要求1-3中任一项所述的ceDNA载体，其中所述不对称ITR序列中的一个或多个是合成的。

7.根据权利要求1-3和6中任一项所述的ceDNA载体，其中所述ITR中的一个或多个不是野生型ITR。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的ceDNA载体，其中所述不对称ITR之一或二者通过在至少一个选自A、A’、B、B’、C、C’、D和D’的ITR区域中的缺失、插入和/或取代来修饰。

9.根据权利要求8所述的ceDNA载体，其中所述缺失、插入和/或取代导致正常由A、A’、B、B’C、或C’区域形成的茎环结构的全部或部分缺失。

10.根据权利要求8或权利要求9所述的ceDNA载体，其中所述不对称ITR之一或二者通过缺失、插入和/或取代来修饰，所述缺失、插入和/或取代导致正常由B和B’区域形成的茎-环结构的全部或部分缺失。

11.根据权利要求8-10中任一项所述的ceDNA载体，其中所述不对称ITR之一或二者通过缺失、插入和/或取代来修饰，所述缺失、插入和/或取代导致正常由C和C’区域形成的茎-环结构的全部或部分缺失。

12.根据权利要求10或权利要求11所述的ceDNA载体，其中所述不对称ITR之一或二者通过缺失、插入和/或取代来修饰，所述缺失、插入和/或取代导致正常由B和B’区域形成的茎-环结构的部分和/或正常由C和C’区域形成的茎-环结构的部分缺失。

13.根据权利要求1-12中任一项所述的ceDNA载体，其中所述不对称ITR之一或二者在正常包含由B和B’区域形成的第一茎-环结构以及由C和C’区域形成的第二茎-环结构的区域中包含单个茎-环结构。

14.根据权利要求13所述的ceDNA载体，其中所述不对称ITR之一或二者在正常包含由B和B’区域形成的第一茎-环结构以及由C和C’区域形成的第二茎-环结构的区域中包含单个茎和两个环。

15.根据权利要求13或权利要求14所述的ceDNA载体，其中所述不对称ITR之一或二者在正常包含由B和B’区域形成的第一茎-环结构以及由C和C’区域形成的第二茎-环结构的区域中包含单个茎和单个环。