[发明专利]光刻装置和方法

说明书

一种光刻装置，包括用于提供辐射束的照射系统，用于支撑图案形成装置的支撑结构，该图案形成装置用来在该辐射束的横截面向其施加以图案，用于保持衬底的衬底台，用于将图案化辐射束投影到该衬底的目标部分上的投影系统，和被配置为跨该辐射束的横截面改变该辐射束的波长的波长调制器。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2017年09月11日提交的EP申请17190330.5的优先权，并且其通过引用而全文结合于此。

技术领域

本发明涉及一种光刻装置和设备制造方法。

背景技术

光刻装置是将所期望图案应用于衬底的目标部分之上的机器。光刻装置例如可以在集成电路(IC)的制造中使用。在该情形中，可替换地被称作掩模(mask)或掩模版(reticle)的图案形成装置可以被用来生成与IC的个体层相对应的电路图案，并且该图案可以被成像到衬底(例如，硅晶片)上具有辐射敏感材料(抗蚀剂)层的目标部分上(例如，包括一个或多个裸片的部分)。一般而言，单个衬底将包含被连续曝光的相邻目标部分的网络。已知光刻装置包括所谓的步进器(stepper)，其中每个目标部分通过在一次进程中将整个图案曝光到每个目标部分上而对该目标部分进行辐射，以及所谓的扫描器(scanner)，其中通过给定方向(“扫描”方向)的光束扫描图案，同时与该方向平行或反向平行地扫描衬底，而对每个目标部分进行辐射。

衬底通常被配置为基本上是平坦的，从而跨衬底的曝光表面的高度变化被最小化。然而，衬底可能不是完全平坦的。例如，衬底通常在它们的边缘部分(即，接近衬底的周界)弯曲。衬底在该衬底的边缘部分处的弯曲可以被称作“边缘滚降(edge roll-off)”。已知投影系统的焦平面通常是平面的，而衬底的边缘部分则是弯曲的。这意味着该投影系统投影到衬底上的图案形成装置的图像可能在衬底的边缘区域无法对焦。这会在执行光刻曝光时导致诸如对焦误差之类的光刻误差。

期望例如提供一种缓解或消除无论在本文还是其它地方所认识到的现有技术的一种或多种问题的装置和方法。

发明内容

根据本发明的第一方面，提供了一种光刻装置，包括用于提供辐射束的照射系统，用于支撑图案形成装置的支撑结构，该图案形成装置用来在该辐射束的横截面向其施加以图案，用于保持衬底的衬底台，用于将图案化辐射束投影到该衬底的目标部分上的投影系统，和被配置为根据该辐射束的横截面内的位置改变该辐射束的波长的波长调制器。

改变辐射束的波长有利地使得投影系统的焦平面的形状能够发生变化。不同于总体上是平面的，可以向投影系统的焦平面引入弯曲。投影系统的焦平面的形状可以有所变化而使得其更好地匹配衬底的目标区域的形状，由此减少光刻装置的对焦误差。例如，衬底边缘滚降效应可以通过改变辐射束的波长而至少部分地得以考虑，从而投影系统的焦平面的形状更好地匹配衬底边缘的弯曲。与调节投影系统中的透镜元件相比，改变辐射束的波长可以使得投影系统的焦平面的形状能够被更多控制以及更快变化。以下作为本发明的其它方面而给出改变辐射束的波长以便改变投影系统的焦平面的形状的不同装置和方法。

该波长调制器可以包括声光调制器。

该声光调制器可以包括被配置为在该声光调制器的不同分段中生成具有不同频率的声波的多个换能器。

该光刻装置可以进一步包括被配置为测量衬底的高度图并且输出指示该高度图的信号的形貌测量系统，被配置为从该形貌测量系统接收信号并且确定该投影系统的焦平面的形状变化以及输出指示该投影系统的焦平面的形状变化的信号的处理器，和被配置为从该处理器接收信号并且控制该波长调制器从而应用该投影系统的焦平面的所确定的形状变化的控制器。