[发明专利]正型抗蚀剂组合物、抗蚀剂膜形成方法及层叠体的制造方法有效
申请号: | 201880058649.5 | 申请日: | 2018-08-23 |
公开(公告)号: | CN111065967B | 公开(公告)日: | 2023-06-23 |
发明(设计)人: | 星野学 | 申请(专利权)人: | 日本瑞翁株式会社 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039;C08F212/04;C08F220/22;G03F7/004;G03F7/20;G03F7/38 |
代理公司: | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 杨卫萍;刘继富 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 正型抗蚀剂 组合 抗蚀剂膜 形成 方法 层叠 制造 | ||
1.一种正型抗蚀剂组合物,其包含聚合物和溶剂,
所述聚合物具有下述通式(I)所示的单体单元A以及下述通式(II)所示的单体单元B,
式I中,R1为氯原子,R2为氟原子取代的烷基,R3和R4为氢原子或非取代的烷基,彼此可以相同也可以不同,
式II中,R5和R8~R9为氢原子或非取代的烷基,彼此可以相同也可以不同,R6为氢原子、氟原子、非取代的烷基或氟原子取代的烷基,R7为氢原子或非取代的烷基,p为1以上、5以下的整数,q为0以上、5以下的整数,p+q=5,
所述单体单元A具有一个以上的氟原子,
所述溶剂为选自乙酸异戊酯、甲酸正丁酯、甲酸异丁酯、甲酸正戊酯及甲酸异戊酯中的至少1种。
2.根据权利要求1所述的正型抗蚀剂组合物,其中,所述单体单元B中的氟原子数为0或1。
3.根据权利要求1或2所述的正型抗蚀剂组合物,其中,所述R2为五氟烷基。
4.根据权利要求3所述的正型抗蚀剂组合物,其中,所述R2为2,2,3,3,3-五氟丙基。
5.根据权利要求1或2所述的正型抗蚀剂组合物,其中,所述单体单元B为来自α-甲基苯乙烯的结构单元或来自4-氟-α-甲基苯乙烯的结构单元。
6.一种抗蚀剂膜形成方法,其为使用权利要求1~5中任一项所述的正型抗蚀剂组合物形成抗蚀剂膜的抗蚀剂膜形成方法,包含:
涂布工序,在被加工物上涂布所述正型抗蚀剂组合物;和
前烘工序,加热所述涂布的正型抗蚀剂组合物,
所述前烘工序中的加热以满足下述式(1)的温度T和时间t来进行,所述温度的单位是℃,所述时间的单位是分钟,
(-1/4)×T+32.5≤t≤(-1/4)×T+55···(1)。
7.根据权利要求6所述的抗蚀剂膜形成方法,其中,所述时间为1分钟以上、30分钟以下。
8.一种层叠体制造方法,为制造具有基板、在所述基板上形成的遮光层、及在所述遮光层上形成的抗蚀剂膜的层叠体的层叠体制造方法,所述抗蚀剂膜通过权利要求6或7所述的抗蚀剂膜形成方法来形成。
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