[发明专利]四唑硅烷化合物、该化合物的合成方法及其利用

权利要求书

1.化学式(I)所表示的四唑硅烷化合物，

式(I)中，X表示碳原子数1～12的直链状的烷基、苯基、苄基、碳原子数1～6的烷硫基或者氨基，n表示1～12的整数，R表示甲基或乙基。

2.权利要求1所述的四唑硅烷化合物的合成方法，其中，使化学式(II)所表示的四唑化合物与化学式(III)所表示的卤代烷基硅烷化合物反应，

式(II)中，X与上述相同，

Hal-(CH₂)_n-Si(OR)₃    (III)

式(III)中，R和n与上述相同，Hal表示氯原子、溴原子或碘原子。

3.一种硅烷偶联剂，其以下述化学式(IV)所表示的四唑硅烷化合物作为成分，

式(IV)中，X表示碳原子数1～12的直链状的烷基、苯基、苄基、碳原子数1～6的烷硫基或者氨基，n表示1～12的整数，R表示甲基或乙基，m表示0或1～3的整数。

4.一种表面处理液，其含有下述化学式(IV)所表示的四唑硅烷化合物，

式(IV)中，X表示碳原子数1～12的直链状的烷基、苯基、苄基、碳原子数1～6的烷硫基或者氨基，n表示1～12的整数，R表示甲基或乙基，m表示0或1～3的整数。

5.如权利要求4所述的表面处理液，其用于对选自由金属、无机材料和树脂材料组成的组中的至少一种的表面进行处理。

6.如权利要求4所述的表面处理液，其用于对选自由金属、无机材料和树脂材料组成的组中的两种材料进行粘接。

7.如权利要求5或权利要求6所述的表面处理液，其中，所述金属为选自由铜、铝、钛、镍、锡、铁、银、金和它们的合金组成的组中的至少一种。

8.如权利要求5或权利要求6所述的表面处理液，其中，所述金属为铜或铜合金。

9.如权利要求5或权利要求6所述的表面处理液，其中，所述无机材料为选自由硅、陶瓷、玻璃和无机盐组成的组中的至少一种。

10.如权利要求9所述的表面处理液，其中，所述陶瓷为选自由氧化铝、碳化硅、氮化铝、氮化硅和钛酸钡组成的组中的至少一种。

11.如权利要求5或权利要求6所述的表面处理液，其中，所述树脂材料为选自由丙烯酸酯树脂、环氧树脂、烯烃树脂、聚苯并唑树脂、有机硅树脂和聚酰亚胺树脂组成的组中的至少一种。

12.一种金属的表面处理方法，其中，使权利要求4所述的表面处理液与金属的表面接触。

13.如权利要求12所述的金属的表面处理方法，其中，所述金属为选自由铜、铝、钛、镍、锡、铁、银、金和它们的合金组成的组中的至少一种。

14.如权利要求12所述的金属的表面处理方法，其中，所述金属为铜或铜合金。

15.如权利要求14所述的金属的表面处理方法，其中，在使所述表面处理液与铜或铜合金的表面接触之前，使含有铜离子的水溶液与所述铜或铜合金的表面接触。

16.如权利要求14或权利要求15所述的金属的表面处理方法，其中，在使所述表面处理液与铜或铜合金的表面接触之后，使酸性水溶液或碱性水溶液与所述铜或铜合金的表面接触。

17.一种无机材料的表面处理方法，其中，使权利要求4所述的表面处理液与无机材料的表面接触。