[发明专利]溅镀用钛靶及其制造方法、以及含钛薄膜的制造方法在审
| 申请号： | 201880060970.7 | 申请日： | 2018-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN111108231A | 公开（公告）日： | 2020-05-05 |
| 发明（设计）人： | 村田周平;正能大起 | 申请（专利权）人： | JX金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22F1/18;C22C14/00;C22F1/00 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人： | 程伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 溅镀用钛靶 及其 制造 方法 以及 薄膜 | ||
【权利要求书】：
1.一种溅镀用钛靶，其具有平均晶体粒径为1μm以下的重结晶组织。
2.根据权利要求1所述的溅镀用钛靶，其维氏硬度为140Hv以上。
3.根据权利要求1或2所述的溅镀用钛靶，其纯度为4N即99.99质量％以上。
4.一种溅镀用钛靶的制造方法，其包括以下步骤：对已切割的钛锭进行大应变加工而得到加工板的步骤；
以30％以上的压延率对所述加工板进行冷轧而得到压延板的步骤；以及
在320℃以下的温度对所述压延板进行热处理的步骤。
5.根据权利要求4所述的溅镀用钛靶的制造方法，其中，所述大应变加工中的加工温度为500℃以下。
6.根据权利要求4或5所述的溅镀用钛靶的制造方法，其中，所述大应变加工为多轴锻造。
7.根据权利要求4～6中任一项所述的溅镀用钛靶的制造方法，其中，所述冷轧中的压延率超过70％。
8.根据权利要求4～7中任一项所述的溅镀用钛靶的制造方法，其中，所述加工板的总应变量超过3。
9.根据权利要求4～8中任一项所述的溅镀用钛靶的制造方法，其中，所述钛锭的纯度为4N即99.99质量％以上。
10.一种含钛薄膜的制造方法，其使用权利要求1～3中任一项所述的溅镀用钛靶作为溅镀源。
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