[发明专利]活塞环在审

专利信息
申请号: 201880061903.7 申请日: 2018-11-28
公开(公告)号: CN111133235A 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 沃尔夫·斯蒂芬;斯特芬·霍普;拉尔夫·拉默斯;鲁道夫·林德 申请(专利权)人: 菲特尔莫古布尔沙伊德有限公司
主分类号: F16J9/26 分类号: F16J9/26
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 王皓
地址: 德国布*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 活塞环
【权利要求书】:

1.一种活塞环(10),其具有被涂覆的至少一个运行面(12)和侧腹面(14),其中所述运行面(12)的最上层是含氢或无氢的DLC层,其特征在于,所述侧腹面(14)的至少一个、优选下侧腹面(14)的最上层是铬层。

2.根据权利要求1所述的活塞环(10),其特征在于,所述DLC层是无氢的。

3.根据权利要求1或2所述的活塞环(10),其特征在于,至少在所述DLC层下方的一些区域中存在铬层。

4.根据权利要求3所述的活塞环(10),其特征在于,所述DLC层与所述铬层在外围边缘的区域中至少部分地重叠。

5.根据前述权利要求中任一项所述的活塞环(10),其特征在于,所述DLC层通过PVD工艺形成。

6.根据前述权利要求中任一项所述的活塞环(10),其特征在于,所述铬层具有至少800HV 0.1的硬度。

7.根据前述权利要求中任一项所述的活塞环(10),其特征在于,所述铬层具有裂纹率为700至1200个裂纹/cm的裂纹密度。

8.根据前述权利要求中任一项所述的活塞环(10),其特征在于,在润滑的摩擦接触中,所述铬层的摩擦系数比氮化的铬钢的摩擦系数低至少20%。

9.根据前述权利要求中任一项所述的活塞环(10),其特征在于,所述铬层是电镀形成的。

10.根据前述权利要求中任一项所述的活塞环(10),其特征在于,所述侧腹面(14)具有小于Rz4的粗糙度。

11.根据前述权利要求中任一项所述的活塞环(10),其特征在于,所述铬层具有颗粒沉积物。

12.一种用于制造活塞环(10)的方法,其中DLC层形成为运行面(12)的最上层,铬层形成为至少一个侧腹面(14)的最上层。

13.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,所述DLC层通过PVD工艺形成。

14.根据权利要求12或13所述的方法,其特征在于,所述铬层是电镀形成的。

15.根据权利要求12至14中任一项所述的方法,其特征在于,所述铬层在所述DLC层之前形成。

16.根据权利要求12至15中任一项所述的方法,其特征在于,所述铬层被加工为具有小于Rz4的粗糙度。

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