[发明专利]光间隔体形成用感光性树脂组合物、光间隔体的形成方法、带光间隔体的基板、及滤色器有效

专利信息
申请号: 201880061923.4 申请日: 2018-09-26
公开(公告)号: CN111164466B 公开(公告)日: 2022-04-01
发明(设计)人: 杉山大;椿幸树;百本恵;中野顺弘 申请(专利权)人: 大阪有机化学工业株式会社
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;G02F1/1339;G03F7/027;G03F7/038
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 杨宏军
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 间隔 体形 感光性 树脂 组合 形成 方法 滤色器
【说明书】:

光间隔体形成用感光性树脂组合物,其包含碱溶性树脂、和重均分子量为1000以上的低聚物,上述碱溶性树脂〔P〕与上述低聚物〔O〕的质量比〔O/P比〕为0.4~1.0。

技术领域

本发明涉及光间隔体形成用感光性树脂组合物、光间隔体的形成方法、带光间隔体的基板、及滤色器,尤其涉及对投影曝光(透镜扫描曝光)有用的光间隔体形成用感光性树脂组合物、以及使用其的光间隔体的形成方法、带光间隔体的基板、及滤色器。

背景技术

以往,在液晶显示装置的技术中,为了保持被夹持于滤色器侧基板与薄膜晶体管(TFT:Thin Film Transistor)侧基板之间的液晶层的厚度,使用了被称为间隔体的部件。关于间隔体的形成,大多采用下述方法:使用感光性树脂,利用光刻法在所期望的位置、例如形成于像素间的格子状黑色矩阵上,形成被称为光间隔体的柱状树脂制部件。

另外,形成光间隔体时,为了实现图案化而通常使用光掩模。作为使用光掩模的曝光方式,一直以来采用接近式,近年来,伴随着玻璃基板的大型化及像素的精细化,例如,采用使用了多透镜系统的投影曝光(透镜扫描)方式(例如,参见下述专利文献1)。

在使用了多个透镜的投影曝光方式中,与位于透镜正下方的常规部位相比,对应于透镜与透镜的接合部的部位的曝光量少于常规部。因此,在透镜的相当于接合部的区域,以下述方式进行设计:通过对涂布膜曝光数次,从而成为与常规部相同的曝光量。但是,即使在调节了曝光量的情况下,有时也在透镜的接合部处产生被称为“透镜不均”的、光间隔体的高度上的偏差,从而要求改善该问题。作为用于改善透镜不均的技术,例如,提出了使用下述感光性树脂组合物的技术,所述感光性树脂组合物含有碱溶性树脂、及聚合性化合物,在上述聚合性化合物中,分子量为700以上的聚合性化合物所占的比例为35~65质量%(例如,参见下述专利文献2)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开平7-183212号公报

专利文献2:日本特开2016-184072号公报

发明内容

发明要解决的课题

根据专利文献2所记载的技术,通过使用上述感光性树脂组合物来形成光间隔体,从而抑制在利用透镜扫描方式进行曝光时光间隔体的高度偏差的产生。但是,近年来,针对光间隔体的高度均匀性的要求提高,就应对这些要求而言,尚有改善的余地。

此外,作为形成液晶面板后的问题,存在下述情况:用手指按压液晶面板表面等,从外部对液晶面板施加力或冲击。此时,若光间隔体被压破,则单元间隙局部地变小,从而可能导致显示不良。因此,为了防止因来自外部的力等引起的显示不良,要求光间隔体的复原率大。

为解决上述课题,本发明的目的在于提供能够形成高度均匀性和复原率优异的光间隔体的光间隔体形成用感光性树脂组合物、以及使用其的光间隔体的形成方法、带光间隔体的基板、及滤色器。

用于解决课题的手段

本申请的发明人为解决上述课题而进行了深入研究。结果发现,通过使特定的低聚物与碱溶性聚合物的质量比在一定范围内,能够实现上述课题,从而完成了本发明。

1光间隔体形成用感光性树脂组合物,其包含碱溶性树脂、和重均分子量为1000以上的低聚物,上述碱溶性树脂〔P〕与上述低聚物〔O〕的质量比〔O/P比〕为0.4~1.0。

2如上述1所述的光间隔体形成用感光性树脂组合物,其中,上述碱溶性树脂的重均分子量为5,000~100,000。

3如上述1或2所述的光间隔体形成用感光性树脂组合物,其中,上述碱溶性树脂为丙烯酸系树脂。

4如上述1~3中任一项所述的光间隔体形成用感光性树脂组合物,其中,上述碱溶性树脂的双键当量为100~270。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大阪有机化学工业株式会社,未经大阪有机化学工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880061923.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top