[发明专利]化合物的制造方法、组合物及固化性组合物

权利要求书

1.一种化合物的制造方法，该化合物由式(1)表示，该制造方法包括在还原剂的存在下使由式(2)表示的化合物与由式(3)表示的化合物进行反应的工序，

式中，R¹¹及R¹²各自独立地表示氢原子、卤原子、烷基、芳基、烷氧基或芳氧基；

R²¹及R²²各自独立地表示烷基；

A¹及A²各自独立地表示OH或O^-，A¹及A²中的至少一个表示OH；

X及Y各自独立地表示吸电子性基团；

Z表示n价的阴离子，n表示1以上的整数；其中，在A¹及A²中的一个表示O^-的情况下，Z不存在；

R¹¹和R¹²任选相互键合而形成环，R²¹和R²²任选相互键合而形成环，X和Y任选相互键合而形成环。

2.根据权利要求1所述的化合物的制造方法，其中，

所述还原剂的标准氧化还原电位为-0.5V～1.0V。

3.根据权利要求1或2所述的化合物的制造方法，其中，

所述还原剂为有机还原剂。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的化合物的制造方法，其中，

所述还原剂为抗坏血酸。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的化合物的制造方法，其中，

所述由式(1)表示的化合物为由式(4)表示的化合物，

式中，R¹¹及R¹²各自独立地表示氢原子、卤原子、烷基、芳基、烷氧基或芳氧基；

R¹³及R¹⁴各自独立地表示脂肪族基团、芳香族基团或杂环基；

R¹¹和R¹²任选相互键合而形成环，R¹³和R¹⁴任选相互键合而形成环。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的化合物的制造方法，其中，

在还原剂的存在下使所述由式(2)表示的化合物与所述由式(3)表示的化合物进行反应之后，向所获得的反应物中进一步添加酸。

7.根据权利要求6所述的化合物的制造方法，其中，

所述酸为磺酸。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的化合物的制造方法，其中，

在所述还原剂共存的包含酰胺系溶剂的溶剂的存在下进行所述由式(2)表示的化合物与所述由式(3)表示的化合物的反应。

9.一种组合物，其包含由式(1)表示的化合物，

所述组合物中，在甲醇中测定的分光吸收光谱中，波长385nm处的摩尔吸光系数ε₃₈₅与波长430nm处的摩尔吸光系数ε₄₃₀之比即ε₄₃₀/ε₃₈₅为0.015～0.028，

式中，R¹¹及R¹²各自独立地表示氢原子、卤原子、烷基、芳基、烷氧基或芳氧基；

X及Y各自独立地表示吸电子性基团；

R¹¹和R¹²任选相互键合而形成环；

X和Y任选相互键合而形成环。

10.根据权利要求9所述的组合物，其为紫外线吸收剂。

11.一种固化性组合物，其包含权利要求9或10所述的组合物和固化性化合物。

12.根据权利要求11所述的固化性组合物，其中，

所述固化性化合物为具有-O-Si-O-结构的化合物。