[发明专利]透明导电性薄膜

说明书

透明导电性薄膜依次具备透明树脂基材、光学调整层和透明导电层，光学调整层的基于JIS Z 2255的硬度为0.5GPa以上，透明导电层的表面粗糙度Ra为40nm以下。

技术领域

本发明涉及透明导电性薄膜，详细而言，涉及适合用于光学用途的透明导电性薄膜。

背景技术

以往，形成有包含铟锡复合氧化物(ITO)等的透明导电层的透明导电性薄膜可用于触摸面板等光学用途。

例如公开了具有透明树脂薄膜和透明导电膜且在它们之间具有光学调整层的透明导电性薄膜(例如参照专利文献1)。专利文献1的透明导电性薄膜中，在将透明导电膜蚀刻成特定图案时，利用光学调整层将图案与非图案的反射率之差抑制得较小，使外观良好。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2017-62609号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而，近年来随着触摸面板的多用途化，要求在高温高湿环境下使用时透明导电性薄膜的性能不易降低的湿热耐久性。具体而言，要求即使在85℃、85％RH的环境下长期放置也不产生裂纹(薄膜表面的碎裂)。

因而，对于专利文献1的透明导电性薄膜而言，研究了通过使光学调整层变硬来提高湿热耐久性。

但是，若使光学调整层变硬，则容易变脆。因此，若在制造时、使用时将透明导电性薄膜弯曲，则出现产生裂纹、弯曲性差的不良情况。

本发明提供一种湿热耐久性和耐弯曲性良好的透明导电性薄膜。

用于解决问题的方案

本发明[1]包括一种透明导电性薄膜，其依次具备透明树脂基材、光学调整层和透明导电层，前述光学调整层的基于JIS Z 2255的硬度为0.5GPa以上，前述透明导电层的表面粗糙度Ra为40nm以下。

本发明[2]包括[1]所述的透明导电性薄膜，其中，前述透明导电层的表面粗糙度Ra为10nm以上。

本发明[3]包括[1]或[2]所述的透明导电性薄膜，其中，前述光学调整层的厚度为10nm以上且100nm以下。

本发明[4]包括[1]～[3]中任一项所述的透明导电性薄膜，其中，前述光学调整层由含有重均分子量为1500以上的环氧树脂的树脂组合物形成。

本发明[5]包括[1]～[4]中任一项所述的透明导电性薄膜，其中，将前述透明导电性薄膜沿直径16mm的圆棒弯曲180度时，前述透明导电层不产生裂纹。

发明的效果

根据本发明的透明导电性薄膜，依次具备透明树脂基材、光学调整层和透明导电层，且光学调整层的硬度为0.5GPa以上，因此，湿热耐久性优异。此外，透明导电层的表面粗糙度Ra为40nm以下，因此，耐弯曲性优异。

附图说明

图1表示本发明的透明导电性薄膜的一个实施方式的截面图。

图2表示图1所示的透明导电性薄膜经图案化后的方式的截面图。

图3表示对透明导电性薄膜实施湿热耐久性试验时的示意图。

图4表示对透明导电性薄膜实施耐弯曲性试验时的示意图。

具体实施方式

参照图1，对本发明的透明导电性薄膜的一个实施方式进行说明。