[发明专利]抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法

权利要求书

1.一种抗蚀剂组合物，通过曝光产生酸并且对显影液的溶解性因酸的作用而变化，其特征在于，含有：

基材成分(A)，对显影液的溶解性因酸的作用而变化；

以下述通式(b1-1)表示的化合物(B1)，

相对于所述基材成分(A)100质量份，所述化合物(B1)为10～35质量份，

式中，k表示1～5的整数，R²⁰¹、R²⁰²、R²⁰³分别独立地表示可具有取代基的芳基、烷基或烯基，R²⁰¹、R²⁰²、R²⁰³可以相互键合而与式中的硫原子一起形成环。

2.如权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述化合物(B1)为下述化合物(B1-1)，相对于所述基材成分(A)100质量份，所述化合物(B1-1)的含量为10～35质量份。

3.一种抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，具有：

在支承体上使用权利要求1或2所述的抗蚀剂组合物形成抗蚀剂膜的工序；

将所述抗蚀剂膜曝光的工序；以及

将所述曝光后的抗蚀剂膜显影而形成抗蚀剂图案的工序。