[发明专利]空隙层、层叠体、空隙层的制造方法、光学构件及光学装置有效

专利信息
申请号: 201880063214.X 申请日: 2018-09-27
公开(公告)号: CN111164140B 公开(公告)日: 2022-06-28
发明(设计)人: 服部大辅;岸敦史 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11;G02B1/10
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王利波
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 空隙 层叠 制造 方法 光学 构件 装置
【权利要求书】:

1.一种空隙层,其包含硅化合物的凝胶粉碎物及用具有表面取向性的化合物进行了表面改性的纳米粒子,是空隙率为35体积%以上的空隙层,

所述具有表面取向性的化合物为烷氧基硅烷衍生物,

所述烷氧基硅烷衍生物含有氟原子数为5~17的氟烷基,

所述空隙层是孔结构连续的开孔结构体,

所述空隙层含有相对于所述空隙层的骨架成分为10~50质量%的所述纳米粒子。

2.一种层叠体,其是将权利要求1所述的空隙层、和粘合粘接层直接层叠而成的。

3.权利要求1所述的空隙层的制造方法,该方法包括:

涂敷含有所述纳米粒子的分散液的涂敷工序;以及

使涂敷后的所述分散液干燥的干燥工序。

4.根据权利要求3所述的制造方法,其中,

在所述空隙层的形成的同时,在所述空隙层内部形成包含所述纳米粒子的层。

5.一种光学构件,其包含权利要求1所述的空隙层或权利要求2所述的层叠体。

6.一种光学装置,其包含权利要求5的光学构件。

7.一种层叠体,其具有空隙层和粘合粘接层,

所述空隙层包含硅化合物的凝胶粉碎物及用具有表面取向性的化合物进行了表面改性的纳米粒子,是空隙率为35体积%以上的空隙层,

所述空隙层和所述粘合粘接层隔着由所述空隙层中的所述纳米粒子形成的层而层叠,所述纳米粒子用具有表面取向性的化合物进行了表面改性,

所述空隙层的峰值细孔径为5nm以上且50nm以下,

所述用具有表面取向性的化合物进行了表面改性的纳米粒子的体积平均粒径为1nm以上且50nm以下,

所述具有表面取向性的化合物的表面取向性是向空气界面的移动性。

8.根据权利要求7所述的层叠体,其中,

所述具有表面取向性的化合物为烷氧基硅烷衍生物,

所述烷氧基硅烷衍生物含有氟原子数为5~17的氟烷基。

9.根据权利要求7或8所述的层叠体,其中,所述空隙层含有相对于所述空隙层的骨架成分为10~50质量%的所述纳米粒子。

10.权利要求7~9中任一项所述的层叠体的制造方法,该方法包括通过下述涂敷工序和下述干燥工序而形成空隙层:

涂敷含有所述纳米粒子的含凝胶粉碎物液体的涂敷工序;以及

使涂敷后的所述含凝胶粉碎物液体干燥的干燥工序。

11.根据权利要求10所述的制造方法,其中,

在所述空隙层的形成的同时,在所述空隙层内部形成包含所述纳米粒子的层。

12.一种光学构件,其包含权利要求7~9中任一项所述的层叠体。

13.一种光学装置,其包含权利要求12的光学构件。

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