[发明专利]电解研磨用电极框架及包括其的电解研磨装置有效
申请号: | 201880063247.4 | 申请日: | 2018-09-28 |
公开(公告)号: | CN111699285B | 公开(公告)日: | 2023-01-06 |
发明(设计)人: | 黄在祥 | 申请(专利权)人: | 奥森里德股份有限公司 |
主分类号: | C25F7/00 | 分类号: | C25F7/00;C25F3/16 |
代理公司: | 北京弘权知识产权代理有限公司 11363 | 代理人: | 郭放;崔春植 |
地址: | 韩国忠*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电解 研磨 用电 框架 包括 装置 | ||
1.一种电解研磨用电极框架,所述电极框架在内部配备有容纳电解研磨对象物和电解液的容纳空间的电解槽中使用,包括:
电极放置构件,其结合于所述电解研磨对象物的至少一个以上的凸出部;及
第一负极框架,其以格子结构形成,至少一个以上的一侧与所述电极放置构件结合,与所述电解研磨对象物的研磨面隔开既定间隔配置;
所述电极放置构件包括:
与所述电解研磨对象物的凸出部结合的第一面,
与所述第一负极框架结合的第二面;
所述电极放置构件即使不利用放出口,也与所述电解研磨对象物的凸出部结合。
2.根据权利要求1所述的电解研磨用电极框架,其中,
所述第二面与所述第一面以既定角度折弯形成,所述第一面借助于所述电解研磨对象物的凸出部和第一夹具而固定,
所述电极放置构件的第二面借助于所述第一负极框架的一侧和第二夹具而固定。
3.根据权利要求2所述的电解研磨用电极框架,其中,
所述电解研磨对象物包括形成有下部凸出部的底部、从所述底部向侧面折弯形成的一个以上的侧壁部,
还包括与所述电解研磨对象物的侧壁部相向配置的第二负极框架;
所述电极放置构件从所述电解研磨对象物的底部与侧面隔开地延长形成,
所述第二负极框架固定于所述电极放置构件。
4.根据权利要求2所述的电解研磨用电极框架,其中,
在所述电极放置构件,还配置有用于放置所述第一负极框架的负极框架托架,
所述负极框架托架与所述电极放置构件的第二面结合,
所述第一负极框架与所述负极框架托架重叠固定。
5.根据权利要求1所述的电解研磨用电极框架,其中,
所述第一负极框架包括沿第一方向配置并由多个支架构成的第一负极板、沿与所述第一方向构成既定角度的第二方向配置并由多个支架构成的第二负极板,
所述第一负极板包括第一支架和第二支架,所述第一支架在一部分重叠于所述第二支架的状态下,沿从所述第二支架远离或靠近的方向移动。
6.一种包括权利要求1至5中任意一项的电极框架的电解研磨装置。
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