[发明专利]带电粒子束检查的样品检查选配方案的动态确定的方法有效
申请号: | 201880063430.4 | 申请日: | 2018-09-25 |
公开(公告)号: | CN111164729B | 公开(公告)日: | 2023-04-11 |
发明(设计)人: | 陈仲玮;招允佳;方伟;关键 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | H01J37/28 | 分类号: | H01J37/28 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 董莘 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 带电 粒子束 检查 样品 选配 方案 动态 确定 方法 | ||
1.一种用于带电粒子束检查的方法,包括:
基于样品的第一组特性来标识区域,其中所述第一组特性包括工艺的特性,所述区域中的图案通过所述工艺的所述特性而被形成,其中标识所述区域包括:比较所述工艺的所述特性和所述图案的工艺窗口;以及
基于所述样品的第二组特性,确定对所述样品上的所述区域的带电粒子束检查的选配方案的参数;以及
使用所述选配方案检查所述区域。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述第二组特性包括所述样品的形状、所述样品的密度、所述样品的组分或所述样品的结构。
3.根据权利要求1所述的方法,其中所述第二组特性包括:在所述区域中形成的图案的特性。
4.根据权利要求3所述的方法,其中在所述区域中形成的所述图案的特性包括:所述图案的设计。
5.根据权利要求1所述的方法,其中所述第二组特性包括:工艺的特性,所述区域中的图案通过所述工艺的所述特性而被形成。
6.根据权利要求5所述的方法,其中所述工艺的所述特性包括:刻蚀参数、光刻参数或沉积参数。
7.根据权利要求1所述的方法,其中所述第二组特性包括:所述区域中的缺陷的特性。
8.根据权利要求7所述的方法,其中所述缺陷的特性包括:缺陷的存在、缺陷的密度、缺陷的类型或缺陷的几何特性。
9.根据权利要求1所述的方法,其中所述第二组特性包括:对所述区域的先前检查的特性。
10.根据权利要求9所述的方法,其中对所述区域的所述先前检查的特性包括:在所述先前检查中使用的选配方案的参数、所述先前检查的结果、表示所述先前检查的有效性的度量。
11.根据权利要求1所述的方法,其中所述选配方案的所述参数是以下中的任一项:
一个或多个带电粒子束的着陆能量,
一个或多个带电粒子束的电流,
一个或多个带电粒子束的焦点,
一个或多个带电粒子束的扫描方向,
一个或多个带电粒子束的扫描速度,
一个或多个带电粒子束的目的地,
一个或多个带电粒子束的带电粒子的类型,
使用一个或多个带电粒子束所记录的信号的平均值,
一个或多个带电粒子束的光斑尺寸,
放大率,
所记录的信号的类型,或者
一个或多个带电粒子束的带电粒子的加速电压。
12.根据权利要求1所述的方法,其中标识所述区域还包括:通过基于设计和所述工艺的所述特性对所述图案进行模拟来获得模拟结果。
13.一种用于带电粒子束检查的方法,包括:
基于样品的第一组特性来标识区域,其中所述第一组特性包括工艺的特性,所述区域中的图案通过所述工艺的所述特性而被形成其中标识所述区域包括:通过基于设计和所述工艺的所述特性对所述图案进行模拟来获得模拟结果;以及
基于所述样品的第二组特性,确定对所述样品上的所述区域的带电粒子束检查的选配方案的参数;以及
使用所述选配方案检查所述区域。
14.根据权利要求13所述的方法,其中所述第二组特性包括:所述区域中的缺陷的特性。
15.一种计算机程序产品,包括在其上记录有指令的非暂态计算机可读介质,所述指令在由计算机执行时实现根据权利要求1所述的方法或根据权利要求13所述的方法。
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