[发明专利]具有补偿透镜的光学系统有效

专利信息
申请号: 201880063507.8 申请日: 2018-09-25
公开(公告)号: CN111149186B 公开(公告)日: 2023-01-06
发明(设计)人: 张剑;康志文;王義向 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: H01J37/21 分类号: H01J37/21;H01J37/22;H01J37/30
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 崔卿虎
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 具有 补偿 透镜 光学系统
【权利要求书】:

1.一种在带电粒子束检查系统中使用的光学系统,包括:

一个或多个光学透镜;以及

补偿透镜,被配置为对所述一个或多个光学透镜的组合的焦距从第一介质到第二介质的漂移进行补偿。

2.根据权利要求1所述的光学系统,其中所述光学系统是位置检测系统,包括:

投影模块,包括投影透镜并且被配置为将第一光束投射到样本;

接收模块,包括接收透镜并且被配置为接收从所述样本反射的第二光束;以及

检测模块,被配置为基于所述第二光束来检测所述样本的位置。

3.根据权利要求2所述的光学系统,其中所述一个或多个光学透镜包括所述投影模块中包括的所述投影透镜和所述接收模块中包括的所述接收透镜。

4.根据权利要求2所述的光学系统,其中所述检测模块被设置在所述第一介质中,并且所述投影模块和所述接收模块被设置在所述第二介质中。

5.根据权利要求1所述的光学系统,其中所述光学系统是成像系统,包括:

照射模块,被配置为将第一光束投射到样本;

物镜,被配置为使从所述样本反射的第二光束共轭;以及

检测模块,被配置为基于所述第二光束来检测所述样本的图像。

6.根据权利要求5所述的光学系统,其中所述一个或多个光学透镜包括所述物镜。

7.根据权利要求5所述的光学系统,其中所述检测模块被设置在所述第一介质中,并且所述物镜被设置在所述第二介质中。

8.根据权利要求1所述的光学系统,其中所述光学系统是照射系统,包括:

照射模块,被配置为将第一光束投射到在带电粒子束之下的样本的一部分;

物镜,被配置为使从所述样本反射的第二光束共轭;以及

检测模块,被配置为基于所述第二光束来检测所述样本的所述部分的图像。

9.根据权利要求8所述的光学系统,其中所述一个或多个光学透镜包括所述物镜。

10.根据权利要求8所述的光学系统,其中所述检测模块被设置在所述第一介质中,并且所述物镜被设置在所述第二介质中。

11.根据权利要求1所述的光学系统,其中所述第一介质是空气,并且所述第二介质是真空。

12.根据权利要求1所述的光学系统,其中所述带电粒子束检查系统是电子束检查系统。

13.根据权利要求1所述的光学系统,其中所述补偿透镜的焦距基于所述一个或多个透镜中的每个透镜的焦距、所述一个或多个透镜中的每个透镜的位置、以及所述第一介质和所述第二介质的折射率来被配置。

14.一种用于操作在带电粒子束检查系统中使用的光学系统的方法,所述光学系统包括一个或多个光学透镜,所述方法包括:

在所述光学系统中提供补偿透镜,所述补偿透镜被配置为对所述一个或多个透镜的组合的焦距从第一介质到第二介质的漂移进行补偿;

在提供所述补偿透镜的情况下,在所述第一介质中组装和校准所述光学系统;

在校准之后,移除所述补偿透镜;以及

在移除所述补偿透镜之后,将所述一个或多个光学透镜放置在所述第二介质中。

15.根据权利要求14所述的方法,其中所述光学系统是位置检测系统,并且所述方法进一步包括:

通过包括投影透镜的投影模块将第一光束投射到样本;

通过包括接收透镜的接收模块接收从所述样本反射的第二光束;以及

通过检测模块基于所述第二光束来检测所述样本的位置。

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