[发明专利]模拟方法、物理量计算程序及物理量计算装置在审
申请号: | 201880063617.4 | 申请日: | 2018-11-28 |
公开(公告)号: | CN111247601A | 公开(公告)日: | 2020-06-05 |
发明(设计)人: | 齐藤恒洋 | 申请(专利权)人: | AGC株式会社 |
主分类号: | G16Z99/00 | 分类号: | G16Z99/00;G06F30/20 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 杨青;安翔 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 模拟 方法 物理量 计算 程序 装置 | ||
1.一种模拟方法,利用计算机对物理现象中的物理量在数值上进行解析,所述模拟方法的特征在于,
计算机将解析区域分割成多个分割区域,
基于仅使用不需要所述分割区域的顶点的坐标(Vertex)及该顶点的连接信息(Connectivity)的量并根据加权残差积分法导出的离散化的分割区域的控制方程式,生成所述分割区域的计算用数据模型,该计算用数据模型具有各所述分割区域的体积和表示相邻的所述分割区域彼此的特性的分割区域特性量作为不需要所述分割区域的顶点的坐标(Vertex)及该顶点的连接信息(Connectivity)的量,
通过将所述分割区域集合多个而生成所要求的个数的集合区域,
基于仅使用不需要所述集合区域的顶点的坐标(Vertex)及该顶点的连接信息(Connectivity)的量并根据加权残差积分法导出的离散化的集合区域的控制方程式,生成所述集合区域的计算用数据模型,该计算用数据模型具有各所述集合区域的体积和表示相邻的所述集合区域彼此的特性的集合区域特性量作为不需要所述集合区域的顶点的坐标(Vertex)及该顶点的连接信息(Connectivity)的量,
基于所述解析区域的物性值及所述集合区域的计算用数据模型,计算作为所述集合区域的解析结果的物理量。
2.根据权利要求1所述的模拟方法,其中,
在所述分割区域的计算用数据模型的生成中,以满足如下条件的方式形成所述分割区域:
全部分割区域的体积的总和与解析区域的体积一致的条件;
所述分割区域彼此的边界面的面积一致的条件以及法线矢量的绝对值在从隔着该边界面的一方的分割区域观察时与从另一方的分割区域观察时一致的条件;及
在通过所述分割区域的无限宽的投影面P的任意的方向的单位法线矢量为[n]p、边界面的面积为Si、边界面的单位法线矢量为[n]i、分割区域的面的总数为m、由所述[]包围的文字为表示矢量的黑体字时,下式(1)成立的条件,
【数学式1】
3.根据权利要求1或2所述的模拟方法,其中,
在所述集合区域的计算用数据模型的生成中,以满足如下条件的方式形成所述集合区域:
全部集合区域的体积的总和与解析区域的体积一致的条件;
相邻的所述集合区域彼此的边界面的面积一致的条件以及法线矢量的绝对值在从隔着该边界面的一方的集合区域观察时和从另一方的集合区域观察时一致的条件;及
在通过所述集合区域的无限宽的投影面P的任意的方向的单位法线矢量为[N]P、边界面的面积为Qi、边界面的单位法线矢量为[N]i、集合区域的面的总数为M、由所述[]包围的文字为表示矢量的黑体字时,下式(2)成立的条件,
【数学式2】
4.根据权利要求1~3中任一项所述的模拟方法,其中,
所述分割区域特性量包括表示相邻的所述分割区域彼此的边界面的特性的边界面特性量、相邻的所述分割区域彼此的结合信息及相邻的所述分割区域彼此的距离,
所述集合区域特性量包括表示相邻的所述集合区域彼此的边界面的特性的边界面特性量、相邻的所述集合区域彼此的结合信息及相邻的所述集合区域彼此的距离。
5.根据权利要求4所述的模拟方法,其中,
表示所述相邻的所述分割区域彼此的边界面的特性的边界面特性量是所述相邻的所述分割区域彼此的边界面的面积和所述边界面的法线矢量,
表示所述相邻的所述集合区域彼此的边界面的特性的所述边界面特性量是所述相邻的所述集合区域彼此的边界面的面积和所述边界面的法线矢量。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的模拟方法,其中,
在所述分割区域的计算用数据模型的生成中,从所述分割区域的顶点的坐标(Vertex)及该顶点的连接信息(Connectivity)得到所述分割区域的体积和表示相邻的所述分割区域彼此的特性的所述分割区域特性量。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于AGC株式会社,未经AGC株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880063617.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:受控高度的碳纳米管阵列
- 下一篇:抗IL1RAP抗体