[发明专利]用于发射引导放射治疗中的故障检测的系统和方法

权利要求书

1.一种放射治疗系统，包括：

可旋转机架；

安装在所述机架上的第一正电子发射检测器阵列以及与所述第一正电子发射检测器阵列相对的安装在所述机架上的第二正电子发射检测器阵列；

治疗放射源，其安装在所述第一正电子发射检测器阵列和所述第二正电子发射检测器阵列之间的所述可旋转机架上；

壳体，其设置在所述可旋转机架上并且包括孔和与所述孔内的患者区域间隔开的固定放射源支架，其中，所述固定放射源支架位于所述壳体内或所述壳体的表面上；以及

处理器，其被配置为接收从所述第一正电子发射检测器阵列和所述第二正电子发射检测器阵列检测到的正电子发射数据，以及提取表示源自所述固定放射源支架的正电子发射活动的正电子发射数据，并且当所提取的正电子发射数据不满足一个或多个阈值标准时生成故障信号，并且其中，阈值标准包括空间过滤器，所述空间过滤器选择源自所述固定放射源支架的位置的正电子发射活动，以及其中，当将所述空间过滤器应用于所述提取的正电子发射数据指示所述正电子发射活动与所述固定放射源支架的所述位置不在同一位置时，生成故障信号。

2.根据权利要求1所述的系统，进一步包括患者支撑件，所述患者支撑件包括可移动支撑表面和基座。

3.根据权利要求2所述的系统，其中，所述固定放射源支架沿着所述壳体的所述表面设置在所述患者区域上方的位置处。

4.根据权利要求2所述的系统，其中，所述固定放射源支架位于所述可移动支撑表面下方。

5.根据权利要求1所述的系统，进一步包括由所述固定放射源支架保持的校准放射源，所述校准放射源包括1μCi至300μCi的放射性。

6.根据权利要求1所述的系统，进一步包括被配置为由所述固定放射源支架保持的校准放射源，所述校准放射源包括具有从0.25英寸至3英寸的最大尺寸的形状。

7.根据权利要求6所述的系统，其中，所述校准放射源包括盘形外壳和位于所述外壳内的正电子发射元件。

8.根据权利要求1所述的系统，其中，所述处理器进一步被配置为同时提取表示源自所述固定放射源支架的正电子发射活动的所述正电子发射数据，并且提取表示源自所述患者区域的正电子发射活动的正电子发射数据。

9.根据权利要求1所述的系统，其中，所述空间过滤器是用户可调节的。

10.根据权利要求1所述的系统，其中，所述处理器进一步被配置为使用患者治疗计划来自动调节所述空间过滤器的几何形状。

11.根据权利要求1所述的系统，其中，所述第一正电子发射检测器阵列和所述第二正电子发射检测器阵列限定成像平面，其中，所述治疗放射源的束限定治疗平面，并且所述成像平面和所述治疗平面共面。

12.根据权利要求11所述的系统，其中，所述固定放射源支架与所述成像平面和所述治疗平面共面。

13.根据权利要求5至7中任一项所述的系统，其中，所述固定放射源支架包括具有与所述校准放射源的形状相对应的形状的凹槽。

14.根据权利要求1所述的系统，其中，阈值标准包括采用第一时间差检测到的重合光子事件的阈值数量，

其中，所述处理器被配置为生成采用所述时间差检测到的重合光子事件的实际数量的绘图，以及

其中，当随所述时间差发生的重合光子事件的所述实际数量不超过所述阈值数量时，生成故障信号。