[发明专利]表征光学元件的表面形状的方法及装置

权利要求书

1.一种表征光学元件的表面面形的方法，所述方法包括以下步骤：

实行多个干涉式测量，在所述多个干涉式测量中的每一个干涉式测量中，在各个情况下记录从所述光学元件的一部分发出的测试波与参考波之间的干涉图，在这些测量之间，所述光学元件相对于所述测试波的位置更改；以及

基于这些测量计算所述光学元件的图形；

其中该计算迭代地实行，使得在多个迭代步骤中，所述光学元件的图形在各个情况下通过实行正演计算来确定，这些迭代步骤中的每一个步骤在各个情况下是基于参考波，该参考波以前次迭代步骤为基础来调整；

其中通过实行反向计算确定相应调整的参考波；以及

其中实行所述反向计算包括通过计算从相应测量数据移除所述图形。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，实行所述干涉式测量包括子孔径的记录，所述子孔径中没有一个覆盖反射镜的整个表面。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在各个情况下实行所述反向计算包括从在实行所述干涉式测量时所用的测量设置的第一坐标系到所述光学元件的第二坐标系的栅格变换或变换。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在各个情况下实行所述反向计算包括从所述光学元件的第二坐标系到在实行所述干涉式测量时所用的测量设置的第一坐标系的栅格变换或变换。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，实行迭代计算，直到满足预先确定的收敛准则为止。

6.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，实行迭代计算达迭代步骤的预先确定数目。

7.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，更改所述光学元件的位置实现为使得所述光学元件的曲率中心保持原位。

8.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述光学元件是反射镜或透镜元件。

9.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述光学元件是微光刻投射曝光设备的光学元件。

10.一种表征光学元件的表面面形的设备，其特征在于，所述设备设计为实行如前述权利要求中任一项所述的方法。