[发明专利]荧光体保护膜、波长转换片以及发光单元在审
申请号: | 201880063996.7 | 申请日: | 2018-09-28 |
公开(公告)号: | CN111163929A | 公开(公告)日: | 2020-05-15 |
发明(设计)人: | 黑川真登 | 申请(专利权)人: | 凸版印刷株式会社 |
主分类号: | B32B9/00 | 分类号: | B32B9/00;B32B7/12;B32B7/023;B32B27/06;B32B33/00;F21S2/00;G02B5/20;G02F1/13357;H01L33/00;H01L33/50;F21Y115/10 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 常海涛;金小芳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 荧光 保护膜 波长 转换 以及 发光 单元 | ||
1.一种荧光体保护膜,其是通过粘接层将2片膜贴合而构成的,这2片膜中的一片膜由具有无机薄膜层的膜构成,
2片所述膜中,当将具有所述无机薄膜层的膜设为阻挡膜、将另一片膜设为支撑膜时,所述支撑膜的厚度占荧光体保护膜的总厚度的72%以上。
2.根据权利要求1所述的荧光体保护膜,其中所述阻挡膜的厚度占荧光体保护膜的总厚度的23%以下。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的荧光体保护膜,其中所述阻挡膜具有阻挡膜基材,并且该阻挡膜基材的厚度为9~25μm。
4.根据权利要求3所述的荧光体保护膜,其中所述阻挡膜在所述阻挡膜基材上同时具备所述无机薄膜层以及阻气性被覆层。
5.根据权利要求1至权利要求4中任意一项所述的荧光体保护膜,所述支撑膜在与所述粘接层相反的那一侧的面上具备功能层,该功能层为发挥选自由防干涉条纹功能、防反射功能、光扩散功能、防带电功能以及防划伤功能组成的组中的至少一种功能的层。
6.根据权利要求1至权利要求5中任意一项所述的荧光体保护膜,其中,由下式(1)定义的荧光体保护膜的褶皱系数α的值小于-0.2,
α=ΔL/{(Tb×100)/T}···(1)
式中,ΔL表示在150℃下加热30分钟后的TD方向的热收缩率(%),Tb表示阻挡膜的厚度(μm),T表示荧光体保护膜整体的厚度(μm)。
7.一种波长转换片,其具有2片根据权利要求1至6中任意一项所述的荧光体保护膜,并且被构成为荧光体层夹在这2片荧光体保护膜之间,2片所述荧光体保护膜的任意一者中,所述支撑膜均位于比所述阻挡膜更靠近波长转换片的外侧的位置处。
8.一种发光单元,具有:根据权利要求7所述的波长转换片、光源、以及导光板,其中,所述发光单元被配置为使得从所述光源射出的光经过所述导光板而入射至所述波长转换片的一个面上。
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