[发明专利]在光刻与应用中使用极端紫外线辐射的材料、元件及方法

权利要求书

1.一种用于光学元件的多层布拉格反射镀膜，该光学元件用于操作UV，DUV或EUV带宽中的目标波长的光学系统，其特征在于，该镀膜包括：

基质；

重复的多层双层对形成多层叠层；每个双层对还包括：

第一层；和

第二层，由包含碳(C)、H族元素(H)和金属(M)的材料形成，其中金属(M)是选自元素周期表中第4、5、6行的金属，包括MxCyHz比例的碳，并且有

保护性覆盖层；并且

其中，对于第二层的x0，y0，并且z0。

2.根据权利要求1所述的镀膜，其特征在于，其中所述第一层由碳，H族元素(H)和金属的比率为MxCyHz形成，其中x0，y0，并且z0。

3.根据权利要求1所述的镀膜，其特征在于，其中H族元素(H)是氦，氢，氖或元素气体的原子，所述元素气体为Ar，N₂，H₂，He，Ne，Kr。

4.根据权利要求1所述的镀膜，其特征在于，其中金属(M)是钼，铌，钌，锆，锝，钯，金或镍。

5.根据权利要求1所述的镀膜，其特征在于，其中碳(C)和H族元素(H)是烃，碳化物，氢化物，卡宾，或氢和碳的有机金属配合物。

6.根据权利要求1所述的镀膜，其特征在于，其中该镀膜使所述光学元件的光谱带宽大于目标波长下的Mo-Si多层镀膜的光谱带宽。

7.根据权利要求1所述的镀膜，其特征在于，其中该镀膜使所述光学元件的角度带宽大于目标波长处的Mo-Si多层镀膜的角度带宽。

8.根据权利要求1所述的镀膜，其特征在于，其中该镀膜是光掩模，过滤器，覆盖层，基底，反射器，检测器，收集器中的一层。

9.根据权利要求8所述的镀膜，其特征在于，所述反射器为反射镜。

10.根据权利要求1所述的镀膜，其特征在于，其中所述第一层是Si。

11.一种用于光学元件的反射镀膜或透射镀膜，其特征在于，该光学元件用于操作UV,DUV或EUV带宽中的目标波长的光学系统，该镀膜包括：用于由一种或多种尺寸特征构成的如权利要求1中所述的镀膜中的组合材料MxCyHz；

该镀膜包括二维或三维特征，包括镀膜或者覆盖层；排除X＝Y＝Z＝0。

12.根据权利要求11所述的镀膜，其特征在于，其中碳(C)和H族元素(H)是烃，碳化物，氢化物，卡宾，或氢和碳的有机金属配合物。

13.根据权利要求11所述的镀膜，其特征在于，其中金属原子(M)通过一个或多个配合基与碳(C)或H族元素(H)键合。

14.根据权利要求11所述的镀膜，其特征在于，其中光学元件是光掩模，镜子，透镜，滤光器，覆盖层，基板，检测器或收集器，或应用在光源中。

15.一种制造用于光学元件的材料镀膜的方法，用于制造如权利要求1或权利要求11中所述的镀膜，其特征在于，所述材料镀膜在0.1nm至250nm的目标波长下运作，包括：

以MxCyHz比率组合金属(M)，碳(C)和H族元素(H)形成的一种组合材料，其中x0,y0，并且z0；

用两种或多种离子的组合轰击MxCyHz组合材料；以及

使用受控沉积技术均匀沉积MxCyHz组合材料到同一层。

16.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，还包括：

提供第二层材料；

用两种或多种离子的组合轰击第二层材料；并且

使用受控沉积技术将第二材料均匀地沉积到用于多层镀膜的层对中。