[发明专利]用于通过增材制造来生产物体的设备和方法有效

专利信息
申请号: 201880065403.0 申请日: 2018-11-26
公开(公告)号: CN111465484B 公开(公告)日: 2022-02-25
发明(设计)人: 马克·赫尔曼·埃尔斯·维斯;斯蒂夫·威廉·登特内尔;欧文·维基恩 申请(专利权)人: 添加剂工业有限公司
主分类号: B29C64/264 分类号: B29C64/264;B29C64/153;B22F3/105
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 张成新
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 通过 制造 生产 物体 设备 方法
【权利要求书】:

1.一种用于通过增材制造来生产物体的设备,包括:

-处理室,用于收纳能够通过暴露于电磁辐射而固化的材料的材料浴;

-支撑件,用于相对于所述材料浴的表面水平对所述物体进行定位;

-固化装置,用于通过电磁辐射对所述表面水平上的材料的选择性层部分进行固化;以及

-光学控制装置,其具有被设置在所述固化装置的电磁辐射的光学路径中的聚焦单元,并且被布置为用于对至少所述固化装置所发射的电磁辐射在所述表面水平上的聚焦进行控制;

其特征在于,所述光学控制装置包括:

-传感器元件,其被布置为用于检测所述电磁辐射的聚焦的准确性的量度;

-聚焦校正透镜元件,其被设置在所述电磁辐射的光学路径上,并且被布置成能够在至少其光轴的方向上移动;以及

-聚焦校正控制单元,其连接到所述传感器元件并且连接到所述聚焦校正透镜元件,并且被布置为用于响应于由所述传感器元件获得的信号而使所述聚焦校正透镜元件移动。

2.根据权利要求1所述的设备,其中,所述光学控制装置包括分束器元件,所述分束器元件被设置在所述电磁辐射的光学路径中,并且被布置为用于提供透射光束和反射光束,并且其中,所述传感器元件被布置在所述分束器元件的下游。

3.根据权利要求2所述的设备,其中,所述传感器元件被布置成接收所述透射光束。

4.根据权利要求2或3所述的设备,其中,所述分束器元件是平面分束器。

5.根据权利要求2或3所述的设备,其中,所述聚焦校正透镜元件被布置在所述分束器元件的下游。

6.根据权利要求3所述的设备,其中,所述聚焦校正透镜元件被布置在所述反射光束的光学路径中。

7.根据权利要求6所述的设备,其中,所述聚焦校正透镜元件被布置在所述分束器元件与所述聚焦单元之间。

8.根据权利要求1-3中任一项所述的设备,其中,所述聚焦校正控制单元被布置为用于接收所述设备的系统信息和/或系统数据,并且被布置为用于响应于所述设备的所述系统信息和/或所述系统数据而使所述聚焦校正透镜元件移动。

9.根据权利要求1-3中任一项所述的设备,其中,所述聚焦校正透镜元件包括正透镜或负透镜。

10.根据权利要求1-3中任一项所述的设备,其中,所述光学控制装置包括被布置在所述传感器元件的上游的正透镜元件。

11.一种使用根据权利要求1-10中任一项所述的设备对材料的材料浴的表面水平上的电磁辐射的聚焦进行校正的方法,所述材料能够通过暴露于所述电磁辐射而固化,其中,所述方法包括以下步骤:

-提供电磁辐射束;

-通过使用设置在所述电磁辐射的光学路径中的聚焦单元,使所述电磁辐射束聚焦在所述材料浴的表面水平上;

-检测所述电磁辐射的聚焦的准确性的量度;

-响应于检测到的所述电磁辐射的聚焦的准确性的量度而使聚焦校正透镜元件移动,以对所述聚焦进行校正。

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